特許
J-GLOBAL ID:200903095818873260

イオン注入法による同位元素選択的原子内包フラーレンの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 社本 一夫 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-054344
公開番号(公開出願番号):特開2002-255518
出願日: 2001年02月28日
公開日(公表日): 2002年09月11日
要約:
【要約】【課題】 イオン注入法により放射性同位元素等をフラーレンに内包させることに関する。【解決手段】 質量分析マグネットを装備したイオン注入器を用い、フラーレンおよびフラーレン誘導体をターゲットとして放射性同位元素等の特定同位元素をイオン注入する原子内包フラーレンの製造方法。
請求項(抜粋):
質量分析マグネットを装備したイオン注入器を用い、フラーレンおよびフラーレン誘導体をターゲットとして放射性同位元素等の特定同位元素をイオン注入することを特徴とする原子内包フラーレンの製造方法。
Fターム (2件):
4G046CB01 ,  4G046CC10
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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引用文献:
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