特許
J-GLOBAL ID：200903095895152532

レジスト組成物

発明者：
秋田 誠

秋田 誠 について

, 
藤島 浩晃

藤島 浩晃 について

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上谷 保則

上谷 保則 について


出願人/特許権者：
住友化学工業株式会社

住友化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-023212
公開番号（公開出願番号）：特開2003-222999
出願日： 2002年01月31日
公開日（公表日）： 2003年08月08日
要約：
【要約】【課題】エキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、ドライエッチング耐性に優れたポジ型化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】下式(Ia)で表される重合単位及び(Ib)で表される重合単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の重合単位と下式(II)から選ばれるエポキシ基を有する重合単位とを含有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含む化学増幅型ポジ型レジスト組成物。・・・・・(Ia)・・・・・(Ib)(R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、nは1〜3の整数を表す。)・・・・・(II)(R6、R7は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。mは、1〜8の整数を表す。)
請求項（抜粋）：
下式(Ia)で表される重合単位及び(Ib)で表される重合単位からなる群から選ばれる少なくとも1種の重合単位と下式(II)から選ばれるエポキシ基を有する重合単位とを含有し、それ自身はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、並びに酸発生剤を含むことを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。・・・・・(Ia)・・・・・(Ib)(式中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立に水素原子又はメチル基を表し、nは1〜3の整数を表す。R2が複数のとき、互いに同一でも異なっていてもよく、R4が複数のとき、互いに同一でも異なっていてもよい。)・・・・・(II)(式中、R6、R7は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。mは、1〜8の整数を表す。)
IPC (5件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F220/16 ,  C08F220/28 ,  C08F220/32 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F 7/039 601 ,  C08F220/16 ,  C08F220/28 ,  C08F220/32 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (32件)：
2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08S ,  4J100AL10Q ,  4J100BA03S ,  4J100BA11P ,  4J100BA11S ,  4J100BC09R ,  4J100BC09S ,  4J100BC53P ,  4J100BC53S ,  4J100BC54Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100DA28 ,  4J100DA38 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (8件)
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