ウェットステーション並びにそのウェットステーションを用いたウェット洗浄方法及びウェット洗浄装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福森久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-305507
公開番号（公開出願番号）：特開平8-148457
出願日： 1994年11月15日
公開日（公表日）： 1996年06月07日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】超純水リンスのスループットが高く、薬品や超純水の再生利用が可能なウェットステーション、ウェット洗浄方法、ウェット洗浄装置を提供する。【構成】ウェットステーションは、ウェットプロセス装置が内設されたウェットベンチの天井には、低圧損かつ高補集率である四フッ化エチレン製のフィルターを設置し、かつ、前記ウェットベンチ内に配置された薬液槽と超純水リンス槽との間の上部空間には、微細多孔なノズルを有するスプレーシャワー機を設置したことを特徴とする。また、ウェット洗浄方法は、超純水又はオゾンを添加した超純水を用いて薬液の付着した基板を洗浄し、かつ、前記洗浄後の超純水を捕集し専用配管に流すことによって、前記洗浄後の超純水の分別回収を可能としたことを特徴とする。さらに、ウェット洗浄装置は、前記洗浄後の超純水の分別回収を行うために、超純水を捕集する捕集器と専用配管を設けたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

ウェットプロセス装置が内設されたウェットベンチの天井には、低圧損かつ高補集率である四フッ化エチレン製のフィルターを設置し、かつ、前記ウェットベンチ内に配置された薬液槽と超純水リンス槽との間の上部空間には、微細多孔なノズルを有するスプレーシャワー機を設置したことを特徴とするウェットステーション。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , H01L 21/02 , H01L 21/306

引用特許：

審査官引用 (10件)

洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-001939 出願人：日本電気株式会社
特開平3-041729
ワーク洗浄装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-172223 出願人：セイコーエプソン株式会社

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