特許

J-GLOBAL ID：200903096566179167

電子線リソグラフィに適した化学増幅レジスト及び同レジスト・システム

発明者： ジェームズ・ジェイ・ブッキニャーノ ,  ウー=ソン・ファン ,  アハマド・ディー・カトナーニ ,  キム・ワイ・リー ,  ウェイン・エム・モロー ,  カレン・イー・ペトリーリョ
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 坂口 博 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-012706
公開番号（公開出願番号）：特開平11-282166
出願日： 1999年01月21日
公開日（公表日）： 1999年10月15日
要約：

【要約】【課題】 改良されたレジスト塗膜の保存性を示し、使用時に真空の影響を殆どまたは全く受けない化学増幅レジストを提供する。【解決手段】 本発明は、水性塩基可溶性ポリマーまたはコポリマーの極性官能基の一部がメトキシシクロヘキサニルなどの脂環式ケタール保護基で保護された化学増幅レジストおよびレジスト・システムに関する。新規保護基を含む本発明のレジストおよびレジスト・システムは従来のレジストと比較して改善された保存性および真空安定性を有する。したがって、本発明のレジストは電子線リソグラフィ応用例に極めて有用である。

請求項（抜粋）：

Xが約3〜約12個の炭素原子を含む置換または非置換の脂環式の基であり、Rが約1〜約12個の炭素原子を含む直鎖または分岐アルキル、約3〜約12個の炭素原子を含む環状アルキル、および約6〜約14個の炭素原子を含むアリールから成る群から選択される、式RO-X-を有する脂環式ケタール置換基で、全てではなく一部が保護された極性官能基を有する水性塩基可溶性のポリマーまたはコポリマーを含む化学増幅レジスト。

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (8件)

• 橋かけポリマー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-330237   出願人：オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
• ポリマー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-291710   出願人：オーシージーミクロエレクトロニックマテリアルズインコーポレーテッド
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-349570   出願人：日本合成ゴム株式会社
• 酸に不安定な保護基を有するフェノール樹脂
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-006982   出願人：オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
• 特開平4-313215
  
• 半導体装置の製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-014679   出願人：松下電子工業株式会社
• 特表平6-502341
  
• 化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-208864   出願人：住友化学工業株式会社