特許
J-GLOBAL ID：200903096695634580
高純度透明シリカガラスの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-011052
公開番号（公開出願番号）：特開平11-209132
出願日： 1998年01月23日
公開日（公表日）： 1999年08月03日
要約：
【要約】【課題】高温での粘性が高くかつ高純度な透明シリカガラスを容易に製造でき、さらに、加熱による密度変化が少なく、ガスの浸入がなく、かつ気泡が極めて少なく、また、均質性に優れた高純度透明シリカガラスの製造方法を提供する。【解決の手段】珪素のアルコキシドより得たシリカであって、その含有金属不純物としてNa、K、Mg、Ca、Fe、Al及びTiが各々独立して0.1ppm以下であり、かつOH基含有量が60ppm〜500ppmである高純度非晶質シリカ粉末を出発原料とし、出発原料を10mmHg以下の減圧雰囲気下で1500〜1700°Cの温度で所定時間保持させクリストバライト結晶化させた後、減圧雰囲気下で溶融しうる温度におき、その後不活性ガスで加圧状態にして保持した後冷却する高純度透明シリカガラスの製造方法を用いる。
請求項（抜粋）：
珪素のアルコキシドより得たシリカであって、その含有金属不純物としてNa、K、Mg、Ca、Fe、Al及びTiが各々独立して0.1ppm以下であり、かつOH基含有量が60ppm〜500ppmである高純度非晶質シリカ粉末を出発原料とし、出発原料を10mmHg以下の減圧雰囲気下で1500〜1700°Cの温度で所定時間保持させクリストバライト結晶化させた後、減圧雰囲気下で溶融しうる温度におき、その後不活性ガスで加圧状態にして保持した後冷却することを特徴とする高純度透明シリカガラスの製造方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
C03B 20/00 A
, C03B 20/00 D
, C03B 20/00 F
, C03C 3/06
