特許
J-GLOBAL ID：200903096885618840
マイクロレンズアレイの形成方法およびマイクロレンズアレイ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-040357
公開番号（公開出願番号）：特開2000-241607
出願日： 1999年02月18日
公開日（公表日）： 2000年09月08日
要約：
【要約】【課題】 光学特性に優れ、かつ所望の光学特性を有するマイクロレンズアレイの形成方法及びマイクロレンズアレイを提供する。【解決手段】 基板10上に、該基板10に転写する複数の微小な転写用凹状形状30を有する転写層20を形成し、この転写層20の表面側からその表面形状を保存しながら全面をほぼ一様に除去する処理を転写層20がなくなるまで続けることによって、転写層20の転写用凹状形状30を基板10に転写して基板に微小な凹状部31を形成し、次いで、これら微小な凹状部31に基板10の屈折率よりも高い屈折率を有する充填物質を充填してレンズ部32を形成することにより、マイクロレンズアレイを得る。
請求項（抜粋）：
透明な基板に複数の微小な凹状部を形成する凹状部形成工程と、該凹状部形成工程によって形成された凹状部に前記基板の屈折率よりも高い屈折率を有する充填物質を充填してレンズ部を形成するレンズ部形成工程とを有し、前記凹状部形成工程は、複数の微小な転写用凹状形状を有する転写層を前記基板上に形成する転写層形成工程と、該転写層の形状を基板に転写して基板に複数の微小な凹状部を形成する転写工程とを有することを特徴とするマイクロレンズアレイの形成方法。
IPC (4件)：
G02B 3/00
, B29D 11/00
, B29K101:10
, B29K105:32
4F213AA44
, 4F213AH74
, 4F213WA02
, 4F213WA53
, 4F213WA56
, 4F213WA58
, 4F213WA86
, 4F213WC02
