特許
J-GLOBAL ID：200903096896279834
ビーム入射を伴う分析方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-292043
公開番号（公開出願番号）：特開2006-105748
出願日： 2004年10月05日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：
【課題】X線反射率法等のビーム入射を伴う分析方法において、分析面に平坦度の低い領域を有する試料の場合でも、高精度で分析ができるようにする。【解決手段】試料3の分析面の最も平坦な領域を選定し、選定された領域にビームが所定角度で入射されるように試料3の位置を調整する。図5の場合、領域Dではなく、領域Eにビームを入射する。【選択図】 図5
請求項（抜粋）：
試料の分析面に電磁波のビームを所定角度で入射して、前記分析面から反射あるいは発生した電磁波を検出し、この検出値に基づいて前記試料を分析する方法において、
前記分析面の最も平坦な領域を選定し、選定された領域に前記ビームが所定角度で入射されるように前記試料の位置を調整することを特徴とするビーム入射を伴う分析方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (21件)：
2F065AA53
, 2F065FF04
, 2F065FF51
, 2F065GG04
, 2F065HH03
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL00
, 2F065MM03
, 2F065MM04
, 2F065PP12
, 2G001AA01
, 2G001BA15
, 2G001CA01
, 2G001EA02
, 2G001EA09
, 2G001GA13
, 2G001JA08
, 2G001JA11
, 2G001LA11
, 2G001MA05
