特許
J-GLOBAL ID:200903096989137070

成形品表面の官能基分析方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-340230
公開番号(公開出願番号):特開2007-147365
出願日: 2005年11月25日
公開日(公表日): 2007年06月14日
要約:
【課題】 成形品表面における官能基の種類、その分布状態と密度について、精度良く分析できる、成形品表面の官能基分析方法を提供する。【解決手段】 官能基を有する化合物で構成される成形品表面における前記官能基の定性および定量分析する方法であって、前記官能基と、該官能基に対し選択的に反応する成分とを、固相で反応させ、成形品表面に分析用識別部を形成する工程と、原子間力顕微鏡により、前記分析用識別部を観察する工程と、前記観察工程において得られた画像を処理する工程と、を有する成形品表面の官能基分析方法。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
官能基を有する化合物で構成される成形品表面における前記官能基の定性及び定量分析する方法であって、 前記官能基と、該官能基に対し選択的に反応する成分とを、気相で反応させ、成形品表面に分析用識別部を形成する工程と、 原子間力顕微鏡により、前記分析用識別部を観察する工程と、 前記観察工程において得られた画像を処理する工程と、 を有する成形品表面の官能基分析方法。
IPC (2件):
G01N 13/16 ,  G01N 31/00
FI (2件):
G01N13/16 A ,  G01N31/00 Y
Fターム (11件):
2G042AA01 ,  2G042BD04 ,  2G042BD05 ,  2G042BD08 ,  2G042BD09 ,  2G042BD10 ,  2G042CB06 ,  2G042FA20 ,  2G042FB01 ,  2G042HA07 ,  2G042HA10
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (7件)
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