特許
J-GLOBAL ID：200903097187979004

膜形成方法及び電気光学装置の製造方法並びに電子機器

発明者：
蛭間 敬

蛭間 敬 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 西 和哉 ,  志賀 正武 ,  青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-013722
公開番号（公開出願番号）：特開2006-198537
出願日： 2005年01月21日
公開日（公表日）： 2006年08月03日
要約：
【課題】 乾燥性の高い液状体を用いる場合でも、乾燥ムラを生じさせない。【解決手段】 液状体を吐出して基板に塗布する塗布工程と、液状体が塗布された基板を乾燥させる乾燥工程とを備える。塗布工程後の液状体に含まれる溶媒の蒸発量が40%を超える前に乾燥工程を開始する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
液状体を吐出して基板に塗布する塗布工程と、前記液状体が塗布された基板を乾燥させる乾燥工程とを備えた膜形成方法であって、 前記塗布工程後の前記液状体に含まれる前記溶媒の蒸発量が40%を超える前に、前記乾燥工程を開始することを特徴とする膜形成方法。
IPC (2件)：
B05D 3/02 ,  B05D 1/26
FI (2件)：
B05D3/02 D ,  B05D1/26 Z
Fターム (12件)：
2H090HB08Y ,  2H090HC06 ,  2H090HC18 ,  2H090HC20 ,  4D075AC06 ,  4D075AC73 ,  4D075AC82 ,  4D075BB24Z ,  4D075BB95Z ,  4D075DC24 ,  4D075EB52 ,  4D075EC30
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (7件)
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