特許
J-GLOBAL ID：200903097440778886

変位測定システム、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

発明者：
クラバー,レナタス,ジェラルドゥス

クラバー,レナタス,ジェラルドゥス について

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ループストラ,エリック,ロエロフ

ループストラ,エリック,ロエロフ について

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ヴァン デア パッシェ,エンゲルバータス,アントニウス,フランシスカス

ヴァン デア パッシェ,エンゲルバータス,アントニウス,フランシスカス について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-064291
公開番号（公開出願番号）：特開2007-292735
出願日： 2007年03月14日
公開日（公表日）： 2007年11月08日
要約：
【課題】誤差を生じにくく、多くの空間を占有しない、改良された精密測定システムを提供する。【解決手段】測定システムに入力された第1の放射ビームが、第1の回折格子によって、1次および負の1次回折放射ビームに分割され、1次および負の1次回折放射ビームが、第2の回折格子によってさらに回折され、続いて再結合されて、第2の放射ビームを形成するように構成されており、この測定システムはさらに、1次回折放射ビームに由来する第2のビームの第1の成分と負の1次回折放射ビームに由来する第2のビームの第2の成分との間の位相差の決定から、第1の格子と第2の格子の相対変位を決定する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
変位測定システムであって、 (a)第1および第2の回折格子を含み、前記変位測定システムは、前記第1の回折格子と前記第2の回折格子の間の変位を測定するように構成されており、前記測定システムは、 (i)前記測定システムに入力された第1の放射ビームが、前記第1の回折格子によって、1次および負の1次回折放射ビームに分割され、 (ii)前記1次および負の1次回折放射ビームが、前記第2の回折格子によってさらに回折され、続いて再結合されて、第2の放射ビームを形成する ように構成されており、 (b)前記1次回折放射ビームに由来する前記第2のビームの第1の成分と前記負の1次回折放射ビームに由来する前記第2のビームの第2の成分との間の位相差の決定から、前記第1の格子と前記第2の格子の相対変位を決定するように構成されたセンサを含み、 (c)前記第2の放射ビームの前記第1および第2の成分を直線偏光し、それらの向きを互いに実質的に直角の方向に向けるように構成された少なくとも1つの直線偏光子を含む 変位測定システム。
IPC (3件)：
G01B 11/00 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (3件)：
G01B11/00 G ,  H01L21/30 516B ,  G03F7/20 521
Fターム (28件)：
2F065AA03 ,  2F065AA09 ,  2F065AA20 ,  2F065AA31 ,  2F065CC18 ,  2F065FF15 ,  2F065FF48 ,  2F065FF49 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ18 ,  2F065LL00 ,  2F065LL17 ,  2F065LL33 ,  2F065LL42 ,  2F065LL46 ,  2F065PP12 ,  5F046CB02 ,  5F046CB09 ,  5F046CB27 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC20 ,  5F046DB05 ,  5F046DC05 ,  5F046DC09 ,  5F046DC12
引用特許：
審査官引用 (15件)
  • 特開昭63-231217
  • 特開昭63-231217
  • 2つの対象物の位置を検出するための装置
    公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-514099   出願人：ドクトル・ヨハネス・ハイデンハイン・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング
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