特許

J-GLOBAL ID：200903097572318884

電子材料の洗浄方法

発明者： 森田 博志 ,  井田 純一 ,  水庭 哲夫
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-067047
公開番号（公開出願番号）：特開平11-265870
出願日： 1998年03月17日
公開日（公表日）： 1999年09月28日
要約：

【要約】【課題】電子材料のウェット洗浄において、簡単な装置を用いて、電子材料表面に付着した微粒子汚染、有機物汚染、金属汚染などを、効率よく除去することができる電子材料の洗浄方法を提供する。【解決手段】還元性ガス又は酸化性ガスを溶解した洗浄水を、ジェット流体として被洗浄物に噴射することを特徴とする電子材料の洗浄方法。

請求項（抜粋）：

還元性ガス又は酸化性ガスを溶解した洗浄水を、ジェット流体として被洗浄物に噴射することを特徴とする電子材料の洗浄方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 643 ,  H01L 21/304 647 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/10 ,  C11D 7/02

FI (5件)：

H01L 21/304 643 C ,  H01L 21/304 647 Z ,  B08B 3/02 G ,  B08B 3/10 Z ,  C11D 7/02

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 超純水による洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-210659   出願人：株式会社荏原製作所
• 半導体基板の洗浄方法及びこれに用いられる洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-147323   出願人：株式会社東芝
• ウエット処理方法および処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-184893   出願人：大見忠弘
• スピン洗浄方法及び洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-079051   出願人：大見忠弘, キヤノン株式会社