特許

J-GLOBAL ID：200903097731586593

マスク、露光量調整方法及び半導体デバイスの製造方法

発明者： 藤澤 忠仁 ,  井上 壮一 ,  田中 聡 ,  浅野 昌史
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (6件)： 鈴江 武彦 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  蔵田 昌俊 ,  村松 貞男 ,  橋本 良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-182452
公開番号（公開出願番号）：特開2005-017689
出願日： 2003年06月26日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：

【課題】位相シフト型のマスクにおいて、露光量をモニタすること。【解決手段】前記投影露光装置で解像することができない一定幅p内に遮光部と透光部とが一方向に配列された複数のブロックが断続的、または連続的に前記一方向に配列され、該ブロックの遮光部と透光部との寸法比が前記一方向に単調に変化し、且つ隣接する透光部を通過する露光光の位相差は略180度である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

露光光に対して透明な透明基板と、透明基板上に形成された遮光膜とを具備し、投影露光装置によりマスク上の回路パターンをウェハ上に形成されたレジストに転写する際の露光量をモニタする露光量モニタマークが形成されたマスクにおいて、 前記露光量モニタマークは、前記投影露光装置で解像することができない一定幅p内に遮光部と透光部とが一方向に配列された複数のブロックが断続的、または連続的に前記一方向に配列され、該ブロックの遮光部と透光部との寸法比が前記一方向に単調に変化し、且つ隣接する透光部を通過する露光光の位相差は略180度であることを特徴とするマスク。

IPC (4件)：

G03F1/08 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/3205

FI (7件)：

G03F1/08 M ,  G03F1/08 A ,  G03F1/08 D ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 502P ,  H01L21/30 516D ,  H01L21/88 A

Fターム (17件)：

2H095BB02 ,  2H095BB03 ,  2H095BB36 ,  2H095BE01 ,  2H095BE06 ,  5F033QQ01 ,  5F033QQ04 ,  5F033RR04 ,  5F033WW00 ,  5F033XX00 ,  5F033XX03 ,  5F046AA17 ,  5F046AA25 ,  5F046CB17 ,  5F046DA02 ,  5F046DB01 ,  5F046DC03

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 露光量測定方法及び露光量測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-207333   出願人：株式会社東芝
• 位相シフトマスクパターン
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-151082   出願人：沖電気工業株式会社
• 位相シフトマスク及びそれを用いた焦点位置検出方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-113199   出願人：沖電気工業株式会社
• フォトマスク、フォーカスモニター方法、露光量モニター方法及び半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-090010   出願人：株式会社東芝

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Exposure monitor structure