特許

J-GLOBAL ID：200903097786696347

保護層を有するマスクブランク

発明者： ハンス ベッカー ,  ウテ ブットゲライト ,  ギュンター ヘス ,  オリバー ゲッツベルガー ,  フランク シュミット ,  フランク ソーベル ,  マルクス レノ
出願人/特許権者： ショット アーゲー
代理人 (2件)： 浜本 忠 ,  佐藤 嘉明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-077091
公開番号（公開出願番号）：特開2005-301258
出願日： 2005年03月17日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：

【課題】基板上へ薄層系を設けることにより耐薬品性の向上したマスクブランク及びフォトマスクを提供し、アルカリ洗浄処理の実施を可能とする。【解決手段】マスクブランクを基板及び薄層系から構成し、 前記薄層系を、シリコン及びアルミニウムを少なくとも30原子量%含むシリコン及び/またはアルミニウム含有層、及び前記シリコン含有層上へ設けられかつ0.2ないし4nmの厚さをもつ保護層から構成し、 前記マスクブランクによって300nmまたはそれ未満の波長をもつ露光に対するフォトマスクを製造する。【選択図】図1(a)

請求項（抜粋）：

基板及び薄層系から構成されるマスクブランクであって、 前記薄層系は、 シリコン及びアルミニウムを少なくとも30原子量%含むシリコン及び/またはアルミニウム含有層、及び 前記シリコン含有層上へ設けられかつ0.2ないし4nmの厚さをもつ保護層から構成され、 前記マスクブランクによって300nmまたはそれ未満の波長をもつ露光に対するフォトマスクを製造できることを特徴とする前記マスクブランク。

IPC (2件)：

G03F1/08 ,  H01L21/027

FI (2件)：

G03F1/08 A ,  H01L21/30 502P

Fターム (6件)：

2H095BB03 ,  2H095BB19 ,  2H095BB25 ,  2H095BC05 ,  2H095BC20 ,  2H095BC24

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 多層膜反射鏡、軟X線光学機器、露光装置及びその清掃方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-025160   出願人：株式会社ニコン
• キャッピング層を有する反射フォトマスクおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-100628   出願人：三星電子株式会社
• 位相シフトフォトマスクブランクス、位相シフトフォトマスク、及びそれらの製造方法。
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-091401   出願人：アルバック成膜株式会社, 三菱電機株式会社
• 位相シフトマスク及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-276043   出願人：凸版印刷株式会社
• 位相シフトマスク、その位相シフトマスクの製造方法およびその位相シフトマスクを用いた露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-227803   出願人：三菱電機株式会社
• ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-314870   出願人：HOYA株式会社