特許
J-GLOBAL ID：200903097853016941
放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法、パターン形成方法、パターン使用方法、電子部品及び光導波路
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
長谷川 芳樹
, 寺崎 史朗
, 赤堀 龍吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-314451
公開番号（公開出願番号）：特開2006-091806
出願日： 2004年10月28日
公開日（公表日）： 2006年04月06日
要約：
【課題】 露光量が比較的少なくても、パターン精度に優れた硬化物が得られる放射線硬化性組成物、その保存方法、硬化膜形成方法及びパターン形成方法を提供する。【解決手段】 本発明の放射線硬化性組成物は、(a)成分:シロキサン樹脂と、(b)成分:光酸発生剤又は光塩基発生剤と、(c)成分:(a)成分を溶解可能な溶媒と、(d)成分:硬化促進触媒とを含有してなるものである。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(a)成分:シロキサン樹脂、
(b)成分:光酸発生剤又は光塩基発生剤、
(c)成分:(a)成分を溶解可能な溶媒、及び
(d)成分:硬化促進触媒
を含有してなる放射線硬化性組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/075
, G03F 7/004
, H01L 21/027
G03F7/075 511
, G03F7/004 503
, H01L21/30 502R
2H025AA01
, 2H025AA04
, 2H025AA10
, 2H025AA20
, 2H025AB14
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BD20
, 2H025BD48
, 2H025BE07
, 2H025CC20
, 2H025FA12
, 2H025FA17
