特許

J-GLOBAL ID：200903097967086591

高出力スパッタ条件ですぐれた耐割損性を発揮する光記録媒体保護層形成用スパッタリングターゲット材

発明者： 三島 昭史 ,  森 理恵 ,  渡辺 和男
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 富田 和夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-273519
公開番号（公開出願番号）：特開2001-098361
出願日： 1999年09月28日
公開日（公表日）： 2001年04月10日
要約：

【要約】【課題】 高出力スパッタ条件ですぐれた耐割損性を発揮する光記録媒体保護層形成用ターゲット材を提供する。【解決手段】 光記録媒体保護層形成用ターゲット材を、重量%で、SiO2:4〜20%、ZnO:20〜35%、必要に応じてAl2O3、Ga2O3、TiO2、MgO、およびNb2O3のうちの1種または2種以上:0.5〜5%、ZnS:残り、の配合組成を有する混合粉末のホットプレス焼結体で構成する。

請求項（抜粋）：

重量%で、酸化けい素:4〜20%、酸化亜鉛:20〜35%、硫化亜鉛:残り、の配合組成を有する混合粉末のホットプレス焼結体で構成したことを特徴とする、高出力スパッタ条件ですぐれた耐割損性を発揮する光記録媒体保護層形成用スパッタリングターゲット材。

IPC (2件)：

C23C 14/34 ,  G11B 7/26

FI (2件)：

C23C 14/34 A ,  G11B 7/26

Fターム (11件)：

4K029BD12 ,  4K029CA05 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  4K029DC21 ,  4K029DC35 ,  4K029DC39 ,  5D121AA04 ,  5D121EE03 ,  5D121EE13 ,  5D121EE14

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 光ディスク保護膜形成スパッタリングターゲット
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-188104   出願人：株式会社日鉱マテリアルズ
• 光記録媒体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-146003   出願人：株式会社リコー
• 相変化型光記録媒体の保護膜形成用スパッタリングターゲット材料およびその製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-187266   出願人：同和鉱業株式会社
• 耐割損性のすぐれた半導体装置の誘電薄膜形成用スパッタリング焼結ターゲット材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-171123   出願人：三菱マテリアル株式会社
• 光記録保護膜形成用スパッタリングターゲット
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-307466   出願人：三菱マテリアル株式会社