X線投影露光装置及びデバイス製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：若林忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-033869
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306834
出願日： 1997年02月18日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【課題】 X線投影露光装置を実用化する上で発生する様々な課題を解決し、実用的なX線投影露光装置を提供する。さらには、このX線投影露光装置を用いた生産性の高い半導体デバイスの製造方法を提供する。【解決手段】所望のマスクパターンを有する反射型X線マスクを保持するマスクチャックと、マスクパターンが露光転写されるウエハを保持するウエハチャックと、マスクチャックに保持される反射型X線マスクをX線で照射するX線照明系と、反射型X線マクスのマスクパターンをウエハチャックに保持されるウエハに所定の倍率で投影するX線投影光学系とを有し、マスクチャックは静電気力で反射型X線マスクを吸着保持するための静電気発生手段を有する構成とする。

請求項（抜粋）：

所望のマスクパターンを有する反射型X線マスクを保持するマスクチャックと、該マスクパターンが露光転写されるウエハを保持するウエハチャックと、該マスクチャックに保持される反射型X線マスクをX線で照射するX線照明系と、該反射型X線マクスのマスクパターンを該ウエハチャックに保持されるウエハに所定の倍率で投影するX線投影光学系と、を有し、該マスクチャックは、静電気力で反射型X線マスクを吸着保持するための静電気発生手段を有することを特徴とするX線投影露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 503 , G21K 5/02 , H01L 21/68

FI (7件)：

H01L 21/30 531 A , G03F 7/20 503 , G21K 5/02 X , H01L 21/68 R , H01L 21/30 502 P , H01L 21/30 503 C , H01L 21/30 531 M

引用特許：

出願人引用 (12件)

X線投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-073536 出願人：株式会社ニコン
光学素子およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-326527 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-264712

全件表示

審査官引用 (12件)

X線投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-073536 出願人：株式会社ニコン
光学素子およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-326527 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-264712

全件表示

前のページに戻る