特許
J-GLOBAL ID：200903098265094266
極紫外放射線源
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
社本 一夫
, 増井 忠弐
, 小林 泰
, 千葉 昭男
, 富田 博行
, 橋本 正男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-141303
公開番号（公開出願番号）：特開2004-006359
出願日： 2003年05月20日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：
【課題】新規なEUV放射線源を提供する。【解決手段】EUV放射線源(12)は良好な変換効率のために所望のレーザースポット寸法(28)に適合する幅と、レーザービーム/標的の相互作用深さに適合する厚さとを有する液体標的材料のシート(36)を発生させる。EUV源は液体キセノンの如き加圧された極低温液体標的材料を収容するリザーバ(10)を有する。リザーバはまた近接するオリフィス(16)の列(14)を有する。液体標的材料はシートを画定する標的材料の分離した液体ストリームフィラメント(20)としてオリフィスを通して真空室内へ圧送される。液体ストリームは凍結して、凍結した標的フィラメントの列を形成する。レーザービーム(24)は真空室内の標的領域(28)へ導かれ、そこで、レーザービームはフィラメントのストリームを照射し、EUV放射線(32)を放出するプラズマ(30)を生じさせる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
EUV放射線を発生させるための極紫外(EUV)放射線源において、
加圧下の標的材料を収容し、少なくとも1つの開口を有し、標的材料の薄いシートとして、標的材料を、上記開口を通して放出させるリザーバと;
EUV放射線を放出するプラズマを生じさせるように標的領域で標的材料の上記シートに衝突するレーザービームを発生させるレーザー源と;
を有することを特徴とする極紫外放射線源。
IPC (5件)：
H05G2/00
, G21K5/00
, G21K5/08
, H01L21/027
, H05H1/24
H05G1/00 K
, G21K5/00 Z
, G21K5/08 X
, H05H1/24
, H01L21/30 531S
4C092AA05
, 4C092AA15
, 4C092AB21
, 4C092AC09
, 4C092BD17
, 5F046GC03
