特許
J-GLOBAL ID:200903098269175031

炭素化物及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 梶 良之 ,  須原 誠 ,  奈良 泰宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-195235
公開番号(公開出願番号):特開2005-041769
出願日: 2004年07月01日
公開日(公表日): 2005年02月17日
要約:
【課題】 細孔制御がし易い炭素化物及びその製造方法を提供する。【解決手段】 単位構造中に少なくとも一つ以上のフッ素原子を含むポリイミドを非酸化性雰囲気下で600°C以上の温度で炭化し、窒素吸着法で得られる比表面積が500m2/g 以上である炭素化物又は炭化物の製造方法である。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
単位構造中に少なくとも一つ以上のフッ素原子を含むポリイミドを、非酸化性雰囲気下又は減圧下133Pa以下で、600°C以上の温度で炭化し、窒素吸着法で得られる比表面積が500m2/g以上である炭素化物。
IPC (7件):
C01B31/02 ,  B01D53/28 ,  B01J20/20 ,  B01J35/10 ,  C01B31/10 ,  C01B37/00 ,  H01M4/86
FI (7件):
C01B31/02 101Z ,  B01D53/28 ,  B01J20/20 B ,  B01J35/10 301H ,  C01B31/10 ,  C01B37/00 ,  H01M4/86 B
Fターム (80件):
4D052HA21 ,  4G066AA05B ,  4G066AC27A ,  4G066AD13A ,  4G066BA24 ,  4G066BA25 ,  4G066BA26 ,  4G066BA36 ,  4G066CA27 ,  4G066CA33 ,  4G066CA37 ,  4G066CA38 ,  4G066CA43 ,  4G066EA09 ,  4G066FA07 ,  4G066FA18 ,  4G066FA22 ,  4G066FA34 ,  4G066FA35 ,  4G066FA38 ,  4G069AA08 ,  4G069BA08A ,  4G069BB08A ,  4G069BB08B ,  4G069BD04A ,  4G069BD04B ,  4G069BD15A ,  4G069BD15B ,  4G069CC32 ,  4G069DA05 ,  4G069EA08 ,  4G069EB10 ,  4G069EC04Y ,  4G073BA62 ,  4G073UA02 ,  4G073UA06 ,  4G146AA01 ,  4G146AA15 ,  4G146AC08A ,  4G146AC08B ,  4G146AC28B ,  4G146AD12 ,  4G146AD32 ,  4G146AD35 ,  4G146BA15 ,  4G146BA38 ,  4G146BB05 ,  4G146BB06 ,  4G146BB11 ,  4G146BC23 ,  4G146BC33A ,  4G146BC33B ,  4G146BC34B ,  4G146BC37B ,  4G146BC38A ,  4G146BC38B ,  4G146CB11 ,  4G146CB37 ,  4G169AA08 ,  4G169BA08A ,  4G169BB08A ,  4G169BB08B ,  4G169BD04A ,  4G169BD04B ,  4G169BD15A ,  4G169BD15B ,  4G169CC32 ,  4G169DA05 ,  4G169EA08 ,  4G169EB10 ,  4G169EC04Y ,  5H018AA02 ,  5H018BB01 ,  5H018BB16 ,  5H018EE07 ,  5H018EE17 ,  5H018HH02 ,  5H018HH05 ,  5H018HH08 ,  5H018HH09
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (11件)
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