基板処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐々木聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-325121
公開番号（公開出願番号）：特開2003-229404
出願日： 2002年11月08日
公開日（公表日）： 2003年08月15日
要約：

【要約】【課題】平流し方式において被処理基板に気体を吹き付ける乾燥処理に際して基板表面より発生するミストの基板への再付着を防止して、処理品質を向上させること。【解決手段】搬送路114上で基板Gが上下エアナイフ140,142の傍を通過する際、各々の気体噴出部152は搬送方向に逆らう向きでナイフ状の鋭利な空気流を噴出してそれぞれ斜め上方および斜め下方から基板Gの上面および下面に吹き付ける。そうすると、基板Gの上下面においてリンス液の液膜Raや液滴Rが表面張力に抗して基板後方へ吹き寄せられ、あるいは寄せ集められ、エアの風圧を直接受ける各ミスト吸い込み口172付近の基板表面からはミストmが発生する。しかし、発生したミストmは周囲に拡散することなく速やかに各ミスト回収室170の内奥へ吸い込まれ、排気管174を通って排出される。

請求項（抜粋）：

被処理基板をほぼ水平な姿勢で水平方向に搬送する搬送路と、前記搬送路上の前記基板に向けて気体を噴出して吹き付ける気体噴出部と、前記気体噴出部からの気体が前記基板の表面に当たることによって発生するミストを吸い込んで回収するための前記気体噴出部の近傍に設けられるミスト回収部とを有する基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 651 , H01L 21/304 , B08B 5/00

FI (3件)：

H01L 21/304 651 G , H01L 21/304 651 L , B08B 5/00 A

Fターム (7件)：

3B116AA02 , 3B116AB13 , 3B116BB22 , 3B116BB62 , 3B116BB72 , 3B116BB75 , 3B116CD43

引用特許：

審査官引用 (7件)

基板の液切り装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-126552 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
液体除去装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-281411 出願人：東レ株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-332751 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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