特許
J-GLOBAL ID:200903098569146173

微細構造化表面を有するイオン交換システム構造、その製造方法及び使用方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 古谷 聡 ,  溝部 孝彦 ,  西山 清春
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-574323
公開番号(公開出願番号):特表2006-500734
出願日: 2003年03月07日
公開日(公表日): 2006年01月05日
要約:
表面とレーザとの相互作用を利用して、イオン交換システム構造の表面を粗加工する方法。レーザによる表面粗加工プロセスによって、細かい繊維状構造に製造できない種類のものを含む、金属、セラミック、シリケート、ポリマーなどのような広範な基材を使用できるようになる。表面が粗加工されたイオン交換システム構造は、大きい交換表面積が望ましい、燃料電池、バッテリー、及び他の触媒システムなどの用途におけるイオン交換媒体として利用することができる。
請求項(抜粋):
イオン交換システム構造のための拡大された反応表面を有する基材105を形成するための方法であって、 (a)基材105を設けること;及び (b)前記基材の表面にレーザビーム103を照射することにより、前記基材上に拡大された反応表面を形成すること、 とを包含する方法。
IPC (4件):
H01M 8/02 ,  H01M 4/90 ,  H01M 4/92 ,  H01M 8/10
FI (5件):
H01M8/02 E ,  H01M8/02 P ,  H01M4/90 M ,  H01M4/92 ,  H01M8/10
Fターム (22件):
5H018AA06 ,  5H018AS02 ,  5H018BB00 ,  5H018BB07 ,  5H018BB08 ,  5H018BB09 ,  5H018BB16 ,  5H018DD08 ,  5H018EE02 ,  5H018EE03 ,  5H018EE05 ,  5H018EE10 ,  5H018EE11 ,  5H018EE17 ,  5H026AA06 ,  5H026BB04 ,  5H026CX04 ,  5H026EE02 ,  5H026EE08 ,  5H026EE12 ,  5H026EE18 ,  5H026HH00
引用特許:
審査官引用 (16件)
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