特許
J-GLOBAL ID：200903099109982239
アクチュエータ・アセンブリ及びそのようなアクチュエータ・アセンブリを含むリソグラフィ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 吉田 裕
, 森 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-302463
公開番号（公開出願番号）：特開2006-121081
出願日： 2005年10月18日
公開日（公表日）： 2006年05月11日
要約：
【課題】アクチュエータ・アセンブリを提供すること。【解決手段】アクチュエータ・アセンブリは、磁石アセンブリによって発生された磁場中において可動で位置決め可能なコイルを含み、コイル及び磁石のそれぞれは、実質的に片側の面だけが、他方と対面する。第1の自由度で力を発生するために、磁場が電流の方向に対してほぼ直角になるように磁場を形成するための、磁化された磁場整形用要素が設けられる。したがって、磁極によってコイルを取り囲む必要がないので、コイルは、容易に取り付けることができる。【選択図】図3A
請求項（抜粋）：
パターン形成装置から基板上にパターンを転送するように構成されたリソグラフィ装置において、
パターン形成装置又は前記基板を位置決めするように構成されたアクチュエータ・アセンブリであって、
磁場を発生するように構成された複数の磁石を含む第1のアクチュエータ部分と、
前記磁場中で位置決め可能であり、前記磁場を貫通する第2の方向に電流を流すように構成された導電体を含む第2のアクチュエータ部分とを含み、
前記第1のアクチュエータ部分が、前記第2のアクチュエータ部分に対して可動で位置決め可能である、アクチュエータ・アセンブリを含み、
前記磁場が、整形されて、前記電流の前記第2の方向に対してほぼ直角である第1の方向で前記導電体の位置に少なくとも存在し、それによって前記第1及び第2の方向によって画定された平面に対してほぼ直角である第1の自由度で、前記導電体上に力を発生し、
その磁石すべてを含む前記第1のアクチュエータ部分及び前記第2のアクチュエータ部分が、可動であり、前記第1の方向に互いから離れる、リソグラフィ装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, H01L 21/68
, H02K 41/02
H01L21/30 503A
, H01L21/68 K
, H02K41/02 Z
5F031HA57
, 5F031LA06
, 5F031MA27
, 5F031PA07
, 5F031PA30
, 5F046CC01
, 5F046CC02
, 5F046CC17
, 5H641BB06
, 5H641BB16
, 5H641BB18
, 5H641GG03
, 5H641GG07
, 5H641GG26
, 5H641HH02
, 5H641HH05
, 5H641HH16
, 5H641HH17
, 5H641HH20
