特許
J-GLOBAL ID：200903066933652994
リソグラフィ装置、デバイス製造方法および製造されたデバイス
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-195281
公開番号（公開出願番号）：特開2003-077830
出願日： 2002年05月30日
公開日（公表日）： 2003年03月14日
要約：
【要約】【課題】 装置の第1の部分と第2の部分の間で第1の支持方向の磁気力を与える支持物を有するリソグラフィ装置を提供すること。【解決手段】 本支持物は、第1、第2および第3の磁石アセンブリを備え、前記の第1および第3の磁石アセンブリは、前記の第1の部分に取り付けられ、さらにそれぞれが、その磁気分極が前記の支持方向に対して実質的に平行または逆平行であるように方向付けされた少なくとも1つの磁石を備える。また、前記の第1および第3の磁石アセンブリは、それらの間のスペースを、第1の方向に実質的に垂直である第2の方向に画定する。前記の第2の磁石アセンブリは、前記の第2の部分に取り付けられ、少なくとも1つの磁石を備え、また前記の第2の磁石アセンブリは少なくとも部分的に前記のスペース内に設置される。さらに、前記の第2の磁石アセンブリの前記の少なくとも1つの磁石は、前記の第1、第2および第3の磁石アセンブリの間の磁気的な相互作用によって、前記の支持方向に実質的に沿ってバイアス力を生成するように方向付けされた磁気分極を有する。
請求項（抜粋）：
放射の投影ビームを供給するための放射システムと、所望のパターンに従って前記投影ビームをパターン形成するように働くパターン形成手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、前記パターン形成されたビームを前記基板の目標部分に投影するための投影システムと、前記装置の第1の部分と第2の部分の間で第1の支持方向に磁気力を与える支持物とを備えるリソグラフィ投影装置であって、前記支持物が、第1、第2および第3の磁石アセンブリを備えること、および、前記第1および第3の磁石アセンブリは、前記第1の部分に取り付けられ、さらに、それぞれが、磁気分極が前記第1の方向に対して実質的に平行または逆平行であるように方向付けされた少なくとも1つの磁石を備え、前記第1および第3の磁石アセンブリは、それらの間のスペースを、前記第1の方向に実質的に垂直である第2の方向に画定し、前記第2の磁石アセンブリは、前記第2の部分に取り付けられ、少なくとも1つの磁石を備え、さらに、少なくとも部分的に前記スペースの中に設置されており、さらに、前記第2の磁石アセンブリの前記少なくとも1つの磁石は、前記第1、第2および第3の磁石アセンブリの間の磁気相互作用によって、実質的に前記第1の方向に沿ってバイアス力を生成するように方向付けされた磁気分極を有していることを特徴とするリソグラフィ投影装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, F16F 15/03
, G03F 7/22
F16F 15/03 B
, G03F 7/22 H
, H01L 21/30 515 G
3J048AC08
, 3J048BE08
, 3J048DA05
, 3J048EA07
, 3J048EA13
, 5F046CC17
, 5F046CC20
