フィードフォワードオーバーレイ情報を導入したフォトリソグラフィー・オーバーレイ整合を制御するための方法および装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：鈴木正剛 , 佐野良太 , 村松義人
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-553342
公開番号（公開出願番号）：特表2005-513771
出願日： 2002年06月27日
公開日（公表日）： 2005年05月12日
要約：

フォトリソグラフィープロセスを制御するための方法は、選択されたウェハ上に第一層を形成するステップを含む。前記第一層に関する第一オーバーレイ誤差を測定する。少なくとも前記第一オーバーレイ誤差測定に基づいて、前記第一ウェハに形成された第二層にフォトリソグラフィー処理を実行するための動作レシピの少なくとも1つのパラメータを決定する。処理ライン(100)は、フォトリソグラフィー装置(120)と、オーバーレイ計測装置(130)と、コントローラ(140)とを含む。フォトリソグラフィー装置(120)は、動作レシピに従って、ウェハを処理するように構成される。オーバーレイ計測装置(130)は、前記フォトリソグラフィー装置(120)における前記ウェハの処理に関するオーバーレイ誤差を測定するように構成される。コントローラ(140)は、選択されたウェハ上の第一層の形成に関する第一オーバーレイ誤差測定値を受信して、少なくとも前記第一オーバーレイ誤差測定値に基づいて、前記選択されたウェハ上に形成された第二層にフォトリソグラフィー処理を実行するための前記動作レシピの少なくとも1つのパラメータを決定するように構成される。

請求項（抜粋）：

フォトリソグラフィープロセスを制御するための方法であって、選択されたウェハに第一層を形成するステップと、前記第一層に関する第一オーバーレイ誤差を測定するステップと、前記選択されたウェハ上に第二層を形成するステップと、少なくとも前記第一オーバーレイ誤差測定に基づいて、前記選択されたウェハの前記第二層にフォトリソグラフィー処理を実行するための動作レシピの少なくとも1つのパラメータを決定するステップとを含む方法。

IPC (2件)：

H01L21/027 , G03F7/20

FI (3件)：

H01L21/30 525W , G03F7/20 501 , H01L21/30 525X

Fターム (5件)：

2H097KA03 , 2H097KA29 , 2H097LA10 , 5F046FC04 , 5F046FC05

引用特許：

審査官引用 (8件)

重ね合わせ測定用マークを有する半導体装置及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-251557 出願人：セイコーエプソン株式会社
特許第6304999号
パターン重ね合わせ方法及び露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-098954 出願人：ソニー株式会社

全件表示

前のページに戻る