特許
J-GLOBAL ID：200903099135987222

含フッ素重合性単量体、含フッ素高分子化合物、これを用いたレジスト材料及びパターン形成方法

発明者：
角田 真一

角田 真一 について

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小森谷 治彦

小森谷 治彦 について

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古賀 直

古賀 直 について

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古俣 武夫

古俣 武夫 について


出願人/特許権者：
セントラル硝子株式会社

セントラル硝子株式会社 について


代理人 (1件)： 西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-023157
公開番号（公開出願番号）：特開2005-213215
出願日： 2004年01月30日
公開日（公表日）： 2005年08月11日
要約：
【課題】 本発明は、新規な含フッ素重合性単量体である含フッ素アクリレート化合物、これを用いた高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法を提供することにある。【解決手段】 一般式(1)で表される含フッ素アクリレート化合物(式中、R1は、水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基のいずれか1つの官能基で、R2は、水素原子、炭素数1〜25の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基であって、その一部にフッ素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、カルボニル結合を含んでもよい。R3〜R14は、水素原子、炭素数1〜25の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基であって、その一部にフッ素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ヒドロキシル基を含んでもよい。R3とR5、R7とR9、又は、R11〜R14のうちの2つの基は結合して炭素数1〜25のアルキレン基として環を形成してもよく、その一部に酸素原子、硫黄原子、窒素原子を含んでもよい。lは0又は1で、m、nは0〜4の任意の整数を表す。)。【化1】【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
一般式(1)で表される含フッ素アクリレート化合物(式中、R1は、水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基のいずれか1つの官能基で、R2は、水素原子、炭素数1〜25の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基であって、その一部にフッ素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、カルボニル結合を含んでもよい。R3〜R14は、水素原子、炭素数1〜25の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基であって、その一部にフッ素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ヒドロキシル基を含んでもよい。R3とR5、R7とR9、又は、R11〜R14のうちの2つの基は結合して炭素数1〜25のアルキレン基として環を形成してもよく、その一部に酸素原子、硫黄原子、窒素原子を含んでもよい。lは0又は1で、m、nは0〜4の任意の整数を表す。)。
IPC (4件)：
C07C69/653 ,  C08F20/28 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (4件)：
C07C69/653 ,  C08F20/28 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (36件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA12 ,  4H006AA01 ,  4H006AB46 ,  4H006BJ20 ,  4H006BM10 ,  4H006BM71 ,  4H006BN10 ,  4H006KA06 ,  4J100AL04Q ,  4J100AL04R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AR11R ,  4J100BA03P ,  4J100BA03R ,  4J100BB18P ,  4J100BB18R ,  4J100BC04P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12P ,  4J100BC12R ,  4J100BC53R
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (5件)
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