ナノインプリント用モールドおよびその製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-178343
公開番号（公開出願番号）：特開2009-045925
出願日： 2008年07月08日
公開日（公表日）： 2009年03月05日
要約：

【課題】撥油性に優れたナノインプリントに用いるモールド母材およびモールドおよびその製造方法を提供する。【解決手段】表面におけるフッ素原子濃度が1000ppm以上であることを特徴とするフッ素化合成石英ガラスからなるモールド面を有し、撥油性に優れる、ナノインプリントに用いるモールド母材およびモールド。合成石英ガラスからなるナノインプリントに用いるモールドのモールド面をフッ素化する、該モールド母材およびモールドの製造法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

モールド面がフッ素化合成石英ガラスの表面からなり、該表面におけるフッ素原子濃度が1000ppm以上であることを特徴とするナノインプリント用モールド母材。

IPC (3件)：

B29C 59/02 , B29C 33/38 , H01L 21/027

FI (3件)：

B29C59/02 B , B29C33/38 , H01L21/30 502D

Fターム (23件)：

4F202AJ06 , 4F202AJ09 , 4F202AJ11 , 4F202CA01 , 4F202CA13 , 4F202CA19 , 4F202CB01 , 4F202CD08 , 4F202CD23 , 4F202CM47 , 4F209AA16 , 4F209AA36 , 4F209AC05 , 4F209AD08 , 4F209AJ06 , 4F209AJ08 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 4F209PN06 , 4F209PQ11 , 5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (9件)

流体圧力インプリント・リソグラフィ
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-513006 出願人：ナノネックスコーポレーション, チヨウ,スティーヴン,ワイ.
段付き鋳張り捺印式リソグラフィー
公報種別：公表公報出願番号：特願2000-604271 出願人：ボード・オヴ・リージェンツ,ザ・ユニヴァーシティ・オヴ・テキサス・システム
特開昭60-36343号公報

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