特許
J-GLOBAL ID：200903030603294671

インプリント用モールド及びその製造方法

発明者：
福上 典仁

福上 典仁 について

, 
蒲生 秀典

蒲生 秀典 について


出願人/特許権者：
凸版印刷株式会社

凸版印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 野田 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-090525
公開番号（公開出願番号）：特開2007-266384
出願日： 2006年03月29日
公開日（公表日）： 2007年10月11日
要約：
【課題】 インプリント法において、モールドの離型性を向上し、転写パターンの品位を向上する。【解決手段】 インプリント法において、凹凸パターンを形成したモールドのパターン表面に炭素膜を成膜した後、フッ素プラズマ処理により離型層を形成する。あるいはモールド支持基板の圧着面に炭素膜を成膜し、この炭素膜に凹凸パターンを形成した後、フッ素プラズマ処理により離型層を形成する。これにより、樹脂パターン破壊や欠陥の低減、モールドの長寿命化が可能となり、インプリント法における良好な転写パターン形成と大幅なコストダウンが期待できる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
凹凸パターンが形成された表面層を有し、前記凹凸パターン形状をインプリント法によって被転写体に転写するインプリント用モールドであって、 前記凹凸パターンが形成された表面層が非晶質カーボン膜からなる、 ことを特徴とするインプリント用モールド。
IPC (6件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  B82B 1/00 ,  B29C 33/38 ,  B29C 33/42 ,  B29C 59/02
FI (6件)：
H01L21/30 502D ,  G03F7/20 501 ,  B82B1/00 ,  B29C33/38 ,  B29C33/42 ,  B29C59/02 B
Fターム (24件)：
2H097AA20 ,  4F202AF01 ,  4F202AH33 ,  4F202AH73 ,  4F202AJ01 ,  4F202AJ02 ,  4F202AJ06 ,  4F202AJ09 ,  4F202AJ11 ,  4F202CA01 ,  4F202CA19 ,  4F202CA30 ,  4F202CB01 ,  4F202CD22 ,  4F202CM47 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AJ01 ,  4F209AJ02 ,  4F209AJ06 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (17件)
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