特許
J-GLOBAL ID：200903099388493595
EUV露光用マスクブランクおよびEUV露光用マスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
松山 允之
, 池上 徹真
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-240466
公開番号（公開出願番号）：特開2009-071208
出願日： 2007年09月18日
公開日（公表日）： 2009年04月02日
要約：
【目的】紫外線検査光に対するコントラストを向上させ、マスクの検査性能を向上させるEUV露光用マスクおよびこれを製作するためのEUV露光用マスクブランクを提供する。【構成】基板12と、基板12上に設けられ、EUV光を反射する反射層14と、反射層14上に設けられ、EUV光を吸収する吸収層16を備え、波長150nm以上300nm以下の光の反射率が、吸収層16において反射層14よりも高いことを特徴とするEUV露光用マスクブランク10およびこれを加工して製作されるEUV露光用マスク20。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板と、
前記基板上に設けられ、EUV光を反射する反射層と、
前記反射層上に設けられ、EUV光を吸収する吸収層を備え、
波長150nm以上300nm以下の光の反射率が、前記吸収層において前記反射層よりも高いことを特徴とするEUV露光用マスクブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L21/30 531M
, G03F1/16 A
2H095BA01
, 2H095BA02
, 2H095BA10
, 2H095BC13
, 2H095BC19
, 2H095BD04
, 5F046GD01
, 5F046GD07
, 5F046GD11
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
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