特許
J-GLOBAL ID：200903045514535204

反射多層膜付き基板及び反射型マスクブランクス並びに反射型マスク

発明者：
細谷 守男

細谷 守男 について

, 
木下 健

木下 健 について

, 
笑喜 勉

笑喜 勉 について


出願人/特許権者：
HOYA株式会社

HOYA株式会社 について


代理人 (1件)： 大塚 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-141009
公開番号（公開出願番号）：特開2004-363570
出願日： 2004年05月11日
公開日（公表日）： 2004年12月24日
要約：
【課題】反射率の低下を招かずに、酸化防止効果が得られる反射多層膜の保護膜材料を提供する。【解決手段】使用される光に対する屈折率が相対的に高い材料と相対的に低い材料とを交互に周期的に積層した反射多層膜の保護膜が、(a)Zr,Nb,Y,La,Rh,Ti,Bの単体(b)Zr,Nb,Y,La,Rh,Ti,Si,Moから選ばれる少なくとも一種の元素を主成分とする材料(c)SiとBを主成分として含有する材料の何れかで形成されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に、使用される光を反射する反射多層膜を設けた反射多層膜付き基板であって、 前記反射多層膜は、使用される光に対する屈折率が相対的に高い材料と相対的に低い材料とを交互に周期的に積層した多層膜及び該多層膜上の保護膜を有し、この保護膜が、 (a)Zr,Nb,Y,La,Rh,Ti,Bの単体 (b)Zr,Nb,Y,La,Rh,Ti,Si,Moから選ばれる少なくとも一種の元素を主成分とする材料 (c)SiとBを主成分として含有する材料 の何れかで形成されていることを特徴とする反射多層膜付き基板。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F1/08
FI (3件)：
H01L21/30 531M ,  G03F1/08 A ,  G03F1/08 G
Fターム (4件)：
2H095BA10 ,  2H095BC11 ,  2H095BC20 ,  5F046GD10
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (11件)
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