特許

J-GLOBAL ID：200903099480255366

反射防止膜、その形成方法及び光学素子

発明者： 今井 宏明 ,  中山 寛之 ,  塩川 孝紳 ,  山田 和広 ,  鈴木 峰太
出願人/特許権者： 学校法人慶應義塾 ,  HOYA株式会社
代理人 (1件)： 高石 橘馬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-052572
公開番号（公開出願番号）：特開2009-210739
出願日： 2008年03月03日
公開日（公表日）： 2009年09月17日
要約：

【課題】低い屈折率を有し、広い波長範囲の光線に対する反射防止性に優れた均一な反射防止膜、その形成方法及びその反射防止膜を有する光学素子を提供する。【解決手段】基材又はその上に形成された緻密膜の表面に形成されたメソポーラスシリカナノ粒子が集合してなるメソポーラスシリカ多孔質膜からなり、1.10以下の屈折率を有する反射防止膜。 【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材の表面に形成されたメソポーラスシリカナノ粒子が集合してなるメソポーラスシリカ多孔質膜からなり、1.10以下の屈折率を有することを特徴とする反射防止膜。

IPC (4件)：

G02B 1/11 ,  C03C 17/25 ,  C03C 17/34 ,  B32B 9/00

FI (4件)：

G02B1/10 A ,  C03C17/25 A ,  C03C17/34 Z ,  B32B9/00 A

Fターム (36件)：

2K009AA02 ,  2K009BB02 ,  2K009BB11 ,  2K009CC01 ,  2K009CC09 ,  2K009DD02 ,  2K009DD06 ,  4F100AA20B ,  4F100AA21 ,  4F100AG00 ,  4F100AH06B ,  4F100AT00A ,  4F100AT00C ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10C ,  4F100CA18B ,  4F100DE01B ,  4F100DJ10B ,  4F100EH46B ,  4F100EJ48B ,  4F100GB90 ,  4F100JA20B ,  4F100JN00C ,  4F100JN06B ,  4F100JN18B ,  4F100YY00B ,  4G059AA11 ,  4G059AC04 ,  4G059EA05 ,  4G059EB07 ,  4G059GA01 ,  4G059GA02 ,  4G059GA04 ,  4G059GA12

引用特許：

出願人引用 (5件)

• 反射防止膜及びこれを有する撮像系光学素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-001786   出願人：ペンタックス株式会社
• 透明無機多孔体被膜およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-325651   出願人：独立行政法人産業技術総合研究所, 国立大学法人名古屋大学
• 日本国特許第3668126号明細書
  
• 超低屈折率膜及びその作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-176707   出願人：株式会社アルバック
• 防曇性反射防止膜を有する光学素子及び防曇性反射防止膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-359430   出願人：ペンタックス株式会社

審査官引用 (1件)

• 超低屈折率膜及びその作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-176707   出願人：株式会社アルバック

引用文献：

出願人引用 (1件)

• Synthesis of Silica Nanoparticles Having a Well-Ordered Mesostructure Using a Double Surfactant Syst