特許
J-GLOBAL ID：200903099486182166
スパッタ装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
大貫 和保
, 小竹 秋人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-293406
公開番号（公開出願番号）：特開2006-104525
出願日： 2004年10月06日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：
【課題】 この発明は、基板の径方向に均一に傾斜した柱状構造の薄膜を精度良く形成できると共に、膜厚分布をさらに均一にすることのできるスパッタ装置を提供する。【解決手段】 この発明は、真空空間を画成する真空容器と、該真空容器内に回転可能に配された基板保持台と、該基板保持台に載置される基板と、該基板に対して所定の角度で傾斜すると共に、前記基板に対して平行に移動するカソードと、該カソードに装着され、膜形成用材料からなるターゲットとを少なくとも具備するスパッタ装置において、前記基板と平行に配され、前記基板の所定の位置を前記ターゲットに対して露出する開口部が形成されたマスクが設けられることにある。また、前記カソードの前面には、前記マスクと平行に開口する開口部を有するフードが設けられる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
真空空間を画成する真空容器と、該真空容器内に回転可能に配された基板保持台と、該基板保持台に載置される基板と、該基板に対して所定の角度で傾斜すると共に、前記基板に対して平行に移動するカソードと、該カソードに装着され、膜形成用材料からなるターゲットとを少なくとも具備するスパッタ装置において、
前記基板と平行に配され、前記基板の所定の位置を前記ターゲットに対して露出する開口部が形成されたマスクが設けられることを特徴とするスパッタ装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
4K029BD11
, 4K029CA05
, 4K029CA15
, 4K029DA12
, 4K029JA02
, 4K029JA08
出願人引用 (2件)
-
イオンビームスパッタ装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-012110
出願人：株式会社日立製作所
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薄膜形成装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2002-043629
出願人：日本電信電話株式会社, エヌ・ティ・ティ・アフティ株式会社
審査官引用 (3件)
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