成膜装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石島茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-362561
公開番号（公開出願番号）：特開平11-172418
出願日： 1997年12月12日
公開日（公表日）： 1999年06月29日
要約：

【要約】【課題】蒸着重合用の処理室内への原料モノマーの供給量を正確に制御して均一な膜厚の高分子膜を形成しうる成膜装置を提供する。【解決手段】本発明の成膜装置1は、基板8に対して成膜処理を行うための複数の処理室4〜6を有する。第1の処理室4は蒸着重合用の処理室であり、当該蒸着重合に使用される原料モノマーA、Bは、液体流量コントローラ47A、47Bにより液体の状態で供給量が制御され、気化器48A、48Bによって気化されて第1の処理室4内に導入される。第1の処理室4においては、デポダウン方式によって基板8上に高分子膜が形成される。

請求項（抜粋）：

基体に対して成膜処理を行うための複数の処理室を有する成膜装置であって、上記複数の処理室のうちの少なくとも一つが蒸着重合用の処理室であり、当該蒸着重合に使用される液体状原料モノマーの供給量を制御する供給量制御手段と、該供給量制御手段を介して上記蒸着重合用の処理室内に導入される所定量の液体状原料モノマーを気化する気化手段とを有することを特徴とする成膜装置。

IPC (2件)：

C23C 14/24 , H01L 21/31

FI (2件)：

C23C 14/24 D , H01L 21/31 C

引用特許：

審査官引用 (4件)

高分子薄膜の形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-319642 出願人：日本真空技術株式会社
薄膜の堆積装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-326972 出願人：三菱電機株式会社
処理ガスの供給方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-137536 出願人：東京エレクトロン株式会社

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