特許
J-GLOBAL ID：200903099824082890
スラリー供給装置及びこれを用いた研磨システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
飯塚 雄二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-032256
公開番号（公開出願番号）：特開2000-233371
出願日： 1999年02月10日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
要約：
【要約】【課題】 作業効率の低下を最小限に抑えるとともに、容易なメンテナンスでスラリー残量を高い信頼性で計測可能とする。【解決手段】 高濃度のスラリー原液を貯留する原液タンクと;スラリー原液を希釈液と混合して、所望濃度のスラリーを生成する混合タンクと;スラリー原液を混合タンクに供給するスラリー原液供給手段と;希釈液を混合タンクに供給する希釈液供給手段と;混合タンクの外部に設置され、当該タンク内のスラリー重量を測定する第1の重量計と;混合タンク内のスラリー残量に基づいて、スラリー原液供給手段と希釈液供給手段とを制御し、適切な量のスラリー原液と希釈液を混合タンクに供給する制御手段とを備えている。
請求項（抜粋）：
研磨装置において使用されるスラリーより濃度の高いスラリー原液を貯留する原液タンクと;前記原液タンクから供給されるスラリー原液を希釈液と混合して、所望濃度のスラリーを生成する混合タンクと;前記原液タンクに貯留されたスラリー原液を前記混合タンクに供給するスラリー原液供給手段と;前記希釈液を前記混合タンクに供給する希釈液供給手段と;前記混合タンクの外部に設置され、当該タンク内のスラリー重量を測定する第1の重量計と;前記第1の重量計によって測定された測定値に基づいて、前記スラリー原液供給手段と希釈液供給手段とを制御し、適切な量のスラリー原液と希釈液を前記混合タンクに供給する制御手段とを備えたことを特徴とするスラリー供給装置。
IPC (3件)：
B24B 57/02
, H01L 21/304 622
, H01L 21/304
B24B 57/02
, H01L 21/304 622 E
, H01L 21/304 622 D
3C047FF08
, 3C047FF11
, 3C047GG15
