特許
J-GLOBAL ID：200903099855833451
蛍光X線膜厚分析装置及び方法
発明者：
出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
阿部 龍吉 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-020285
公開番号（公開出願番号）：特開平10-221047
出願日： 1997年02月03日
公開日（公表日）： 1998年08月21日
要約：
【要約】【課題】 広い範囲の膜厚を高精度で測定できるようにする。【解決手段】 無限厚とみなせる、または無限厚とみなせない場合には板厚と組成比が既知の標準試料板10を被測定膜9の裏側におき、X線管球1からX線を照射して標準試料板10から発生する蛍光X線を検出して被測定膜9の膜厚を測定する蛍光X線膜厚分析装置において、標準試料板10として、エネルギーの異なる特性X線を発生する複数の元素からなる混合標準試料板を用い、混合標準試料板から発生する蛍光X線のうち、被測定膜9による吸収によってその強度が所定の範囲に低下する線を分析線として選択し、該分析線の強度に基づき被測定膜9の膜厚を求める。
請求項（抜粋）：
無限厚とみなせる、または無限厚とみなせない場合には板厚と組成比が既知の標準試料板を被測定膜の裏側におき、X線を照射して標準試料板から発生する蛍光X線を検出して被測定膜の膜厚を測定する蛍光X線膜厚分析装置において、前記標準試料板として、エネルギーの異なる特性X線を発生する複数の元素からなる混合標準試料板を用い、該混合標準試料板から発生する蛍光X線のうち、前記被測定膜による吸収によってその強度が所定の範囲に低下する線を分析線として選択し、該分析線の強度に基づき前記被測定膜の膜厚を求めることを特徴とする蛍光X線膜厚分析装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01B 15/02 D
, G01N 23/223
