特許
J-GLOBAL ID：200903099902136438
基板製造方法及び製造システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
井上 学
, 戸田 裕二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-054247
公開番号（公開出願番号）：特開2009-210843
出願日： 2008年03月05日
公開日（公表日）： 2009年09月17日
要約：
【課題】基板上にパターンを形成する基板製造において、基板歪み、及び上層と下層の着工露光装置に露光歪みの機差が存在しても、上層と下層の合わせずれを小さくする基板製造方法、およびそのシステムを提供する。【解決手段】本発明は、上層を露光するマスクレス露光装置の露光歪みのデータと、前着工ロットのアライメントログデータと、前着工ロットの上層と下層の合わせずれの検査データから次着工ロット用の補正露光パターンを作成し、マスクレス露光装置を用いて補正露光パターンを露光する。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
基板上に下層パターンを露光する第1の露光装置と、基板上に上層パターンの露光を行
うアライメントログを出力する機構を備えるマスクレス露光による第2の露光装置と、前
記第2の露光装置の露光歪みを測定する長寸法検査装置と、露光歪みを格納する露光歪み
DBと、下層パターンと上層パターンの合わせずれを測定する合わせ検査装置と、前記ア
ライメントログ、前記露光歪み、前記合わせずれのデータから次着工ロットの補正露光パ
ターンを算出し、前記第2の露光装置に指示する露光パターン補正装置の構成を含む基板
製造システム。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (9件)：
2H097AA03
, 2H097JA02
, 2H097KA03
, 2H097KA13
, 2H097KA20
, 2H097KA22
, 2H097KA29
, 2H097KA40
, 2H097LA12
