特許
J-GLOBAL ID:200903061953417671
画像記録装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松阪 正弘
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-011816
公開番号(公開出願番号):特開2004-056080
出願日: 2003年01月21日
公開日(公表日): 2004年02月19日
要約:
【課題】高速に微細パターンの描画を行うことができる画像記録装置を提供する。【解決手段】画像記録装置1は、基板9を保持するステージユニット2、複数の光照射部40を有する露光ユニット4、並びに、ステージユニット2と露光ユニット4とを相対的に移動する機構を有する。光照射部40には、反射光を変調する微小ミラー群を有するDMD、および、DMDを露光ユニット4に対してX方向に移動する微小移動機構が設けられ、光照射部40による光照射位置が微小移動機構によりX方向に微小移動する。光照射部40には、ズームレンズがさらに設けられ、ズームレンズにより基板9上のDMDの像が拡大または縮小される。複数の光照射部40を並行かつ独立して制御することにより、画像記録装置1では高速に微細パターンの描画を行うことができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
感光材料に画像情報に基づいて変調された光ビームを照射して画像を記録する画像記録装置であって、
それぞれが変調された光ビームを感光材料に向けて出射する複数の光照射部を有する露光ユニットと、
複数の光ビームを感光材料に照射しつつ前記感光材料を前記露光ユニットに対して相対的に走査させる走査手段と、
前記感光材料の走査方向にほぼ垂直な方向に関して、前記複数の光照射部に対応する複数の照射位置の間隔を変更する照射位置調整手段と、
を備えることを特徴とする画像記録装置。
IPC (4件):
H01L21/027
, G02B27/18
, G03F7/22
, G03F9/00
FI (5件):
H01L21/30 518
, G02B27/18 Z
, G03F7/22 H
, G03F9/00 H
, H01L21/30 529
Fターム (4件):
5F046BA07
, 5F046CB22
, 5F046CB25
, 5F046DA11
引用特許:
審査官引用 (7件)
-
位置ずれ補正方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-318547
出願人:株式会社ニコン
-
リソグラフィ装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-314739
出願人:株式会社日立製作所
-
露光装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-346753
出願人:オリンパス光学工業株式会社
全件表示
前のページに戻る