文献

J-GLOBAL ID：201002091202361500   整理番号：79A0264379

電子ビーム・リソグラフィーにおける相互近接効果の基礎的研究

Fundamental studies of the interproximity effect in electron-beam lithography.

著者 (3件)： NOMURA E ,  MURATA K ,  NAGAMI K
資料名： Jpn J Appl Phys  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 18  号： 7  ページ： 1353-1360  発行年： 1979年 
JST資料番号： G0520A  CODEN： JJAPA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パターン幾何学を考慮することができ,モンテカルロ計算に基いた...

シソーラス用語： 電子ビーム ,...

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引用文献 (6件)：

• 2) J. S. Greeneich and T. Van Duzer: IEEE Trans. Electron Devices ED-21 (1974) 286.
• 3) R. J. Hawryluk, A. M. Hawryluk and H. I. Smith: J. Appl. Phys. 45 (1974) 2551.
• 6) For example, J. S. Greeneich: J. Appl. Phys. 45 (1974) 5264.
• 9) D. F. Kyser and K. Murata: IBM J. Res. & Dev. <B>18</B> (1974) 352.
• 10) R. J. Hawryluk, H. I. Smith, A. Soares and A. M. Hawryluk: J. Appl. Phys. 46 (1975) 2528.

タイトルに関連する用語 (5件)： 電子ビーム ,  リソグラフィー ,  近接効果 ,  基礎 ,  研究