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J-GLOBAL ID：201002242728380060   整理番号：10A0786219

DRIEおよび湿式エッチングベースマイクロマシニング応用のための界面活性剤添加TMAHの研究

Study of surfactant-added TMAH for applications in DRIE and wet etching-based micromachining

著者 (7件)： TANG B (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  SHIKIDA M (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  SATO K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  PAL P (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  AMAKAWA H (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  HIDA H (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  FUKUZAWA K (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名： Journal of Micromechanics and Microengineering  (Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻： 20  号： 6  ページ： 065008,1-9  発行年： 2010年06月 
JST資料番号： W1424A  ISSN： 0960-1317  CODEN： JMMIEZ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： TMAH(水酸化テトラメチルアンモニウム)はCMOS互換性と高いSi-SiO₂エッチング選択性があり,ポピュラーなエッチャントである。しかし丸型カラム表面の柱頭除去には適していない。本論文では,半球状試料を用いた,Triton X-100添加TMAH溶液における単結晶シリコンのエッチング異方性特性化につき初めて報告した。MEMS領域における湿式異方性エッチング応用の拡張では従来のエッチャントと比べて優れた特性を示した。DRIEエッチングプロセスによる柱頭除去のため,正しい{110}傾斜および{111}平面のTMAH+Tritonにおける類似エッチング挙動を利用した。平滑エッチング表面仕上げによる円筒レンズ製作により,本研究の直接応用を実験提示した。

シソーラス用語： RIE【エッチング】 ,  エッチング ,  *マイクロマシニング ,  *界面活性剤 ,  ケイ素 ,  単結晶 ,  MEMS ,  エッチング液 ,  柱頭 ,  ロッドレンズ ,  *ウェットエッチング ,  単結晶シリコン
準シソーラス用語： *DRIE ,  エッチャント ,  異方性エッチング ,  円筒レンズ ,  *湿式エッチング

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  窒素とその化合物  (YB02050S)

物質索引 (1件)： 水酸化テトラメチルアンモニウム

タイトルに関連する用語 (7件)： DRIE ,  湿式エッチング ,  マイクロマシニング ,  応用 ,  界面活性剤 ,  TMAH ,  研究