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J-GLOBAL ID：201002263711463104   整理番号：10A0533482

種々の気体圧で堆積したWO₃スパッター膜のナノ構造

Nanostructure of WO₃ Sputtered Films Deposited at Various Gas Pressures

著者 (4件)： SHAALAN Nagih M. (Graduate School of Sci. and Engineering, Univ. of Toyama) ,  YAMAZAKI Toshinari (Graduate School of Sci. and Engineering, Univ. of Toyama) ,  KIKUTA Toshio (Graduate School of Sci. and Engineering, Univ. of Toyama) ,  KAWABATA Tokimasa (Graduate School of Sci. and Engineering, Univ. of Toyama)
資料名： Journal of the Vacuum Society of Japan  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 53  号： 3  ページ： 210-213 (J-STAGE)  発行年： 2010年 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 1882-2398  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スパッター堆積したWO₃膜のナノ構造をさらに理解するために深い研究を行なった。堆積した状態の膜は数nmの微結晶から構成されていた。圧力が増大するにつれて,結晶粒間の開いた細孔のために膜の密度が減少し,表面積が増大した。膜を400°C以上でアニールしたとき,膜はよく結晶化して単斜晶系そしてランダム形状の結晶粒を形成した。この結晶化のとき,膜は縮小し,その密度はわずかに増大したが,相対的表面積は実質的に減少した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *酸化タングステン ,  *スパッタ蒸着 ,  蒸着膜 ,  圧力効果 ,  微結晶 ,  *熱処理 ,  *結晶化 ,  単斜晶系 ,  表面積 ,  ナノ構造
準シソーラス用語： 圧力依存性

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (11件)：

• 1) J. A. Thornton: J. Vac. Sci. Technol. A, 4 (1986) 3059.
• 2) J. A. Thornton: J. Vac. Sci. Technol., 12 (1975) 830.
• 3) J. A. Thornton: J. Vac. Sci. Technol., 11 (1974) 666.
• 4) T. Yamazaki, H. Okumura, C.J. Jin, A. Nakayama, T. Kikuta and N. Nakatani: Vacuum, 77 (2005) 237.
• 5) T. Yamazaki, T. Furuta, Y. Shen, C. Jin, T. Kikuta and N. Nakatani: Jpn. J. Appl. Phys., 45 (2006) 9180.

タイトルに関連する用語 (4件)： 気体圧 ,  堆積 ,  スパッター膜 ,  ナノ構造