H<sub>2</sub>O雰囲気での反応性スパッタリングによって作られたNiオキシ水酸化物薄膜のエレクトロクロミック特性に関するスパッタリングガス圧力の効果

ABE Yoshio; UETA Hideaki; OBATA Takeshi; KAWAMURA Midori; SASAKI Katsutaka; ITOH Hidenobu

文献

J-GLOBAL ID：201002295320265188 整理番号：10A1534696

H₂O雰囲気での反応性スパッタリングによって作られたNiオキシ水酸化物薄膜のエレクトロクロミック特性に関するスパッタリングガス圧力の効果

Effects of Sputtering Gas Pressure on Electrochromic Properties of Ni Oxyhydroxide Thin Films Prepared by Reactive Sputtering in H₂O Atmosphere

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資料名：
巻： 49 号： 11 ページ： 115802.1-115802.4 発行年： 2010年11月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

Niオキシ水酸化物(NiOOH)薄膜がH₂O気体での反応性スパッタリングによって作られ,そしてKOHでのエレクトロクロミック特性に関するスパッタリングガス圧力の効果が研究された。最も大きな光学密度変化は,NiOOHに近い低い薄膜密度と化学組成のために,約6.7Paの高いスパッタリングガス圧力のもとで蒸着された薄膜に対して得られた。着色と漂白サイクルの間の安定な透過率変化が最初のサイクルから100サイクルまで膜に対して得られた。(翻訳著者抄録)

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スパッタリング , その他の無機化合物の薄膜

引用文献 (23件)：

C. G. Granqvist: Handbook of Inorganic Electrochromic Materials (Elsevier, Amsterdam, 1995) p. 1.
Electrochromic Displays, ed. N. Baba, M. Yamana, and H. Yamamoto (Sangyo Tosho, Tokyo, 1991) p. 27 [in Japanese].
P. C. Yu, G. Nazri, and C. M. Lampert: Sol. Energy Mater.16(1987)1.
K. Yoshimura, T. Miki, and S. Tanemura: Jpn. J. Appl. Phys.34(1995)2440.
K.-S. Ahn, Y.-C. Nah, and Y.-E. Sung: J. Appl. Phys.92(2002)1268.

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H2O雰囲気での反応性スパッタリングによって作られたNiオキシ水酸化物薄膜のエレクトロクロミック特性に関するスパッタリングガス圧力の効果

H₂O雰囲気での反応性スパッタリングによって作られたNiオキシ水酸化物薄膜のエレクトロクロミック特性に関するスパッタリングガス圧力の効果