特許
J-GLOBAL ID:201003000113548521
インクジェットヘッドの製造方法およびインクジェットヘッド
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
宮崎 昭夫
, 石橋 政幸
, 緒方 雅昭
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-089081
公開番号(公開出願番号):特開2010-240873
出願日: 2009年04月01日
公開日(公表日): 2010年10月28日
要約:
【課題】印字特性の良好なインクジェットヘッドを安定して製造することが可能な方法を提供する。【解決手段】圧力発生素子が形成された基板の上に、第一のポジ型レジスト層を形成する工程と、前記第一のポジ型レジスト層のうち、インク流路となる部分の少なくとも表面を選択的に着色する工程と、その着色部をマスクとして、前記第一のポジ型レジスト層をパターニングしてインク流路パターンを形成する工程と、その上にインク流路形成部材となる被覆樹脂層を形成する工程と、前記圧力発生素子の上方に位置する前記被覆樹脂層に、吐出口を形成する工程と、前記インク流路パターンを溶解除去して、前記吐出口と連通するインク流路とする工程とを有する方法でインクジェットヘッドを製造する。特に、前記第一のポジ型レジスト層の着色は、その上にパターン形成した第二のレジスト層を形成した状態で行うことが好ましい。【選択図】図1
請求項(抜粋):
圧力発生素子が形成された基板の上に、第一のポジ型レジスト層を形成する工程と、
前記第一のポジ型レジスト層のうち、インク流路となる部分の少なくとも表面を選択的に着色する工程と、
前記第一のポジ型レジスト層の着色部をマスクとして、前記第一のポジ型レジスト層をパターニングして、インク流路パターンを形成する工程と、
前記インク流路パターンが形成された前記基板の上に、インク流路形成部材となる被覆樹脂層を形成する工程と、
前記圧力発生素子の上方に位置する前記被覆樹脂層に、吐出口を形成する工程と、
前記インク流路パターンを溶解除去して、前記吐出口と連通するインク流路とする工程と
を有することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。
IPC (2件):
FI (2件):
B41J3/04 103H
, B41J3/04 103B
Fターム (9件):
2C057AF28
, 2C057AF29
, 2C057AF93
, 2C057AP02
, 2C057AP31
, 2C057AP57
, 2C057AQ02
, 2C057BA04
, 2C057BA13
引用特許:
前のページに戻る