特許
J-GLOBAL ID：201003000648165770
極端紫外光源装置、極端紫外光源装置用レーザ光源装置及び極端紫外光源装置で使用される可飽和吸収体の制御方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
特許業務法人ウィルフォート国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-216203
公開番号（公開出願番号）：特開2010-103104
出願日： 2009年09月17日
公開日（公表日）： 2010年05月06日
要約：
【課題】本発明のEUV光源装置は、高い熱負荷状態において、可飽和吸収体を安定して連続的に使用することができる。【解決手段】可飽和吸収体(SA)装置33は、自励発振光や寄生発振光あるいは戻り光のような微弱な光を吸収するために、レーザビームライン中に設けられる。SAガスボンベ334(1)からのSAガスとバッファガスボンベ334(2)からのバッファガスとは混合されて、混合ガスとなる。混合ガスは、供給管路333(1)を介して、SAガスセル330に供給され、レーザ光L1に含まれる微弱光を吸収する。混合ガスは、排出管路333(2)を介して排出され、熱交換器332に送られる。熱交換器332で冷却された混合ガスは、循環ポンプ331(1)により、再びSAガスセル330に送られる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
極端紫外光を発生させる極端紫外光源装置であって、
チャンバ内にターゲット物質を供給するターゲット物質供給部と、
パルスレーザ光を出力するためのレーザ発振器と、
前記レーザ発振器から出力される前記レーザ光を増幅させる少なくとも2つ以上の増幅器と、
前記増幅器により増幅されて出力されるレーザ光を前記チャンバ内の所定位置に集光させることにより、前記増幅後のレーザ光を前記ターゲット物質に照射させる集光光学系と、
前記レーザ発振器と前記所定位置との間の光路中に設けられ、少なくとも所定値以下の光強度のレーザ光を吸収し、透過するのを抑制するための可飽和吸収体装置とを備え、
前記可飽和吸収体装置は、
可飽和吸収体の流通する流通空間を有する本体部と、前記流通空間に前記可飽和吸収体を流入させるための流入口と、前記流通空間から前記可飽和吸収体を流出させるための流出口と、前記流通空間に前記レーザ発振器の出力レーザ光を通過させるためのウインドウとを備える可飽和吸収体セルと、
前記流入口と前記流出口とを接続するための管路と、
前記管路の途中に設けられ、前記流出口から流出する前記可飽和吸収体を前記流入口から前記流通空間に流入させるように輸送する輸送部と、
前記管路の途中に設けられ、前記輸送部により輸送される前記可飽和吸収体の温度を調節するための温度調節部と、
を備える極端紫外光源装置。
IPC (4件)：
H05G 2/00
, H01L 21/027
, H01S 3/23
, H01S 3/00
H05G1/00 K
, H01L21/30 531S
, H01S3/23
, H01S3/00 A
4C092AA06
, 4C092AA14
, 4C092AA15
, 4C092AA17
, 4C092AB19
, 4C092AC09
, 4C092BD12
, 4C092BD18
, 4C092BD19
, 5F046CB08
, 5F046CB22
, 5F046DA01
, 5F046DA27
, 5F046GA09
, 5F046GB07
, 5F046GC03
, 5F046GC05
, 5F172AD05
, 5F172DD03
, 5F172EE22
, 5F172NN11
, 5F172NR12
, 5F172NS02
, 5F172NS07
, 5F172NS09
, 5F172NS11
, 5F172ZZ14
