特許

J-GLOBAL ID：201003004927541400

酸化装置、酸化方法、面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置、画像形成装置、光伝送モジュール及び光伝送システム

発明者： 伊藤 彰浩 ,  佐藤 俊一
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-305098
公開番号（公開出願番号）：特開2010-129894
出願日： 2008年11月28日
公開日（公表日）： 2010年06月10日
要約：

【課題】酸化距離のばらつきが小さい酸化装置を提供する。【解決手段】水蒸気を発生させる水蒸気発生装置と、該水蒸気発生装置で発生した水蒸気を酸化温度近くまで加熱する水蒸気加熱装置5030と、該水蒸気加熱装置5030で加熱された水蒸気が供給され、該水蒸気の温度を維持するヒータを有する酸化反応器5040と、開閉可能な隔壁5060を介して酸化反応器5040と連結された準備室5050と、酸化対象物を加熱するヒータを有し、酸化対象物が載置されるテーブル装置と、該テーブル装置を駆動し、酸化開始時に酸化対象物を準備室5050から酸化反応器5040に移動させ、酸化終了後に酸化対象物を酸化反応器5040から準備室5050に移動させる駆動装置とを備えている。【選択図】図11

請求項（抜粋）：

水蒸気を用いて対象物を酸化するための酸化装置であって、 酸化温度近くまで加熱された水蒸気が供給される酸化反応室と; 開閉可能な隔壁を介して前記酸化反応室と連結され、酸化温度よりも低い温度に加熱された対象物を収容するための準備室と;を備える酸化装置。

IPC (5件)：

H01L 21/31 ,  H01S 5/187 ,  G02B 26/10 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/316

FI (5件)：

H01L21/31 E ,  H01S5/187 ,  G02B26/10 B ,  H01L21/205 ,  H01L21/316 C

Fターム (38件)：

2H045AA01 ,  2H045BA23 ,  5F045AA04 ,  5F045AA20 ,  5F045AB09 ,  5F045AB17 ,  5F045AB18 ,  5F045AC08 ,  5F045AC15 ,  5F045AC19 ,  5F045AD08 ,  5F045BB02 ,  5F045BB03 ,  5F045CA12 ,  5F045DP04 ,  5F045EF14 ,  5F045EK21 ,  5F058BB01 ,  5F058BC03 ,  5F058BD05 ,  5F058BF52 ,  5F058BF54 ,  5F058BF62 ,  5F058BG03 ,  5F058BJ07 ,  5F173AC03 ,  5F173AC13 ,  5F173AC42 ,  5F173AD02 ,  5F173AF96 ,  5F173AH12 ,  5F173AL13 ,  5F173AP33 ,  5F173AP67 ,  5F173AP72 ,  5F173AQ12 ,  5F173AQ13 ,  5F173AR26

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 米国特許第5493577号明細書
  
• 加熱処理方法および加熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-178752   出願人：古河電気工業株式会社

審査官引用 (4件)

• 加熱処理方法および加熱処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-178752   出願人：古河電気工業株式会社
• 半導体酸化装置、それを用いた面発光レーザ素子の製造方法、その製造方法によって製造された面発光レーザ素子を備えた面発光レーザアレイ、その製造方法によって製造された面発光レーザ素子または面発光レーザアレイを備えた光伝送システムおよび画像形成装置。
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-055225   出願人：株式会社リコー
• 加熱処理装置および熱処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-286139   出願人：ソニー株式会社
• 半導体発光素子の製法および酸化炉
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-379722   出願人：ローム株式会社