特許
J-GLOBAL ID：201003006997663769
光干渉断層法を用いて眼底を撮像するための撮像装置及び撮像方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-289727
公開番号（公開出願番号）：特開2010-167268
出願日： 2009年12月21日
公開日（公表日）： 2010年08月05日
要約：
【課題】 信号の劣化なく高速に撮像を行うことができ、かつ断層画像の体積データを高品位で得る光干渉断層情報取得装置の提供。【解決手段】 まず、光学部15は、測定光路からの光をそれぞれ、眼底16における第1及び第2の照射位置17、18に集光させる。 次に、制御部20は、前記第1及び第2の照射位置17、18に集光された光をそれぞれ、眼底16における第1及び第2の走査領域で走査させ、且つ該第1及び第2の走査領域どうしを重複させるように走査部19を制御する。 また、断層情報取得部21は、干渉光から前記第1及び第2の走査領域における第1及び第2の断層情報を取得する。 そして、前記重複させた領域における前記第1及び第2の断層情報を用いて、前記第1及び第2の走査領域における前記第1及び第2の断層情報それぞれから、第3の断層情報を取得する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
光干渉断層情報取得装置であって、
参照光路と測定光路とをそれぞれ有する第1及び第2の干渉部と、
前記第1及び第2の干渉部における測定光路からの光をそれぞれ、眼底における第1及び第2の照射位置に集光させるように構成され、且つ該集光された光を眼底において走査するための走査部を有する光学部と、
前記第1及び第2の照射位置に集光された光をそれぞれ、眼底における第1及び第2の走査領域で走査させ、且つ該第1及び第2の走査領域どうしを重複させるように前記走査部を制御するための制御部と、
前記第1及び第2の干渉部における干渉光からそれぞれ、前記第1及び第2の走査領域における第1及び第2の断層情報を取得するための断層情報取得部と、を備え、
前記重複させた領域における前記第1及び第2の断層情報を用いて、前記第1及び第2の走査領域における前記第1及び第2の断層情報から、第3の断層情報を取得することを特徴とする光干渉断層情報取得装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
A61B3/10 R
, G01N21/17 625
2G059AA05
, 2G059BB12
, 2G059EE09
, 2G059FF01
, 2G059HH01
, 2G059JJ13
, 2G059JJ15
, 2G059JJ17
, 2G059JJ22
, 2G059KK03
, 2G059KK04
, 2G059MM01
