特許
J-GLOBAL ID：201003010641319351
基板処理システム及び基板処理方法
出願人/特許権者：
代理人 (6件)： 水尻 勝久 , 竹尾 由重 , 坂口 武 , 北出 英敏 , 時岡 恭平 , 木村 豊
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-019559
公開番号（公開出願番号）：特開2010-177672
出願日： 2010年01月29日
公開日（公表日）： 2010年08月12日
要約：
【課題】本発明は、基板処理システム及び基板処理方法を提供する。【解決手段】基板処理システムは、塗布ユニット、露光前後処理ユニット、及び現像ユニットを有する。各々のユニットは、ロードポート及びインデックスモジュールを有する。露光前後処理ユニットは、異なった層に配置された第1モジュールと第2モジュールとを有する。第1モジュールは、露光前にウエハ上に保護膜を塗布する工程を行う。第2モジュールは、露光後にウエハを洗浄する工程及び露光後ベーキング工程を行う。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
基板に対して塗布工程を行う塗布ユニットと、
露光工程を行う露光装置と接続されると共に前記塗布ユニットで工程が行われた基板に対して露光前後処理工程を行う露光前後処理ユニットと、
前記露光前後処理ユニットで工程が行われた基板に対して現像工程を行う現像ユニットと、を備え、
前記塗布ユニット、前記露光前後処理ユニット、及び前記現像ユニットは、それぞれウエハの収納される容器が置かれるロードポート、前記容器に基板を入れる又は取り出すインデックスモジュール、及び基板上に所定の工程を行う工程モジュールを備え、前記ロードポート、前記インデックスモジュール、及び前記工程モジュールは、順次配置され、
前記露光前後処理ユニットは、前記露光装置と接続するインタフェースモジュールをさらに備え、前記インタフェースモジュールは、前記工程モジュールを基準に前記インデックスモジュールの反対方向に配置されることを特徴とする基板処理システム。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (4件)：
引用特許：
出願人引用 (4件)
-
基板処理装置
公報種別：公開公報 出願番号：特願2006-007298 出願人：株式会社SOKUDO -
バッファ装置、および基板処理装置
公報種別：公開公報 出願番号：特願2004-194186 出願人：パイオニア株式会社, パイオニア・ディスプレイ・プロダクツ株式会社, 東北パイオニア株式会社 -
基板処理装置
公報種別：公開公報 出願番号：特願2006-018454 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
Copyright (c) 2009 Japan Science and Technology Agency. All Rights Reserved