特許
J-GLOBAL ID：200903096149929706

基板処理システム

発明者：
西村 讓一

西村 讓一 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (2件)： 杉谷 勉 ,  戸高 弘幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-211273
公開番号（公開出願番号）：特開2009-049053
出願日： 2007年08月14日
公開日（公表日）： 2009年03月05日
要約：
【課題】露光機の処理時間が増大することによる影響を抑制しつつ、リソグラフィー工程の所定の処理を効率よく行うことができる基板処理システムを提供する。【解決手段】、基板処理システムは、レジスト塗布ユニットSCおよび現像ユニットSDを有する塗布現像装置1と、露光機37がインラインでPEBブロック33と接続された露光装置3とが別体で設けられている。また、両装置1、3のインデクサブロック11、31との間で、基板Wを収容する収容器Cを搬送する上方搬送機構5を備えている。そして、両装置1、3は、互いに連携しつつ基板Wに対して所定の処理を行う。よって、露光機37の処理時間が増大した場合であっても、塗布現像装置1の稼働率は影響を受けることなく、塗布現像装置1を効率よく稼働させることができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板に処理を行う基板処理システムにおいて、 基板上にレジスト膜を形成するレジスト塗布ユニットを有する塗布装置と、 前記塗布装置とは別体に設けられ、レジスト膜が形成された基板を露光する露光機と、露光された基板を加熱する熱処理ユニットと、を有する露光装置と、 前記塗布装置および前記露光装置における各処理のスケジュールを調整しつつ、前記レジスト塗布ユニットと前記露光機と前記熱処理ユニットを制御する制御手段と、 を備えていることを特徴とする基板処理システム。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/677
FI (3件)：
H01L21/30 562 ,  H01L21/30 514E ,  H01L21/68 A
Fターム (17件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA08 ,  5F031FA03 ,  5F031FA11 ,  5F031MA06 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031PA03 ,  5F046AA13 ,  5F046AA17 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CD01 ,  5F046JA22 ,  5F046KA10 ,  5F046LA18
引用特許：
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (9件)
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