特許
J-GLOBAL ID:201003012572263830

化学増幅型フォトレジスト組成物及びパターン形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-034512
公開番号(公開出願番号):特開2010-224530
出願日: 2010年02月19日
公開日(公表日): 2010年10月07日
要約:
【課題】微細なパターンの形成において、良好なラインエッジラフネスと露光マージンとを与える化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。【解決手段】式(B1)の酸発生剤と樹脂(A1)及び樹脂(A2)とを含有し、樹脂(A1)及び樹脂(A2)が(a1)、(a2)及び(a3)のアクリル系モノマーを、所定の仕込み量で重合させて得られる樹脂である化学増幅型フォトレジスト組成物。(a1):酸の作用によりアルカリ可溶となるC6〜C20飽和環状炭化水素基を有し、(a2):水酸基で置換されたアダマンチル基を有し、(a3):ラクトン環を有する。[Q1及びQ2はF又はC1〜C6ペルフルオロアルキル基;Lb1は単結合又は2価C1〜C17飽和炭化水素基;YはC1〜C18脂肪族炭化水素基又はC3〜C18飽和環状炭化水素基;Z+は有機カチオンを表す。]【選択図】なし
請求項(抜粋):
式(B1)で表される酸発生剤と樹脂(A1)と樹脂(A2)とを含有し、 樹脂(A1)が、(a1)、(a2)及び(a3)を重合させて得られる樹脂であり、 樹脂(A2)が、(a1)、(a2)及び(a3)を重合させて得られる樹脂であり、 式(1)〜式(6)のいずれかを満たす化学増幅型フォトレジスト組成物。 (a1):酸の作用によりアルカリ可溶となるC6〜C20飽和環状炭化水素基を有するアクリル系モノマー、 (a2):水酸基で置換されたアダマンチル基を有するアクリル系モノマー (a3):ラクトン環を有するアクリル系モノマー S1/T1≦0.995 (1) 1.005≦S1/T1 (2) S2/T2≦0.995 (3) 1.005≦S2/T2 (4) S3/T3≦0.995 (5) 1.005≦S3/T3 (6) S1:樹脂(A1)において、樹脂(A1)の仕込みモノマー全量を100モルとしたときの(a1)の仕込み量(モル) S2:樹脂(A1)において、樹脂(A1)の仕込みモノマー全量を100モルとしたときの(a2)の仕込み量(モル) S3:樹脂(A1)において、樹脂(A1)の仕込みモノマー全量を100モルとしたときの(a3)の仕込み量(モル) T1:樹脂(A2)において、樹脂(A2)の仕込みモノマー全量を100モルとしたときの(a1)の仕込み量(モル) T2:樹脂(A2)において、樹脂(A2)の仕込みモノマー全量を100モルとしたときの(a2)の仕込み量(モル) T3:樹脂(A2)において、樹脂(A2)の仕込みモノマー全量を100モルとしたときの(a3)の仕込み量(モル)
IPC (4件):
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/28
FI (5件):
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/28
Fターム (40件):
2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AH14 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH25 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ69X ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN65P ,  2H125AN82P ,  2H125AN85P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03Q ,  4J100BA11R ,  4J100BA11S ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC53R ,  4J100BC53S ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100JA38
引用特許:
審査官引用 (4件)
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