特許
J-GLOBAL ID：200903086413471211
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-284533
公開番号（公開出願番号）：特開2006-098708
出願日： 2004年09月29日
公開日（公表日）： 2006年04月13日
要約：
【課題】感度に優れ、且つ、露光ラチチュード、パターン倒れ、パターンプロファイル、及びラインパターンのラインエッジラフネスが改良されたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸分解性樹脂及び活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物において、異なる重合開始剤で重合した少なくとも2種の酸分解樹脂を含有させたポジ型レジスト組成物を用いる。特に、-CN、-COOH、-OH、-NH-から選ばれる置換基を少なくとも一つ有する重合開始剤を用いて重合した樹脂と、-CN、-COOH、-OH、-NH-から選ばれる置換基を有さない重合開始剤を用いて重合した樹脂とを含有したポジ型レジスト組成物が良好な特性を示す。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A1)酸分解樹脂、及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有するポジ型レジスト組成物であって、さらに(A1)とは異なる重合開始剤で重合した酸分解樹脂(A2)を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA09
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC04
, 2H025AC06
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025BJ10
, 2H025CB41
, 2H025CB55
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (6件)
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