反射型フォトマスク、把持装置、露光装置及び露光方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人高橋・林アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-210137
公開番号（公開出願番号）：特開2010-045317
出願日： 2008年08月18日
公開日（公表日）： 2010年02月25日
要約：

【課題】非帯電物質である磁性物質の除塵機能をフォトマスクに備え、露光工程中で除塵機能を有する反射型フォトマスクを提供すること。【解決手段】表面にパターン形成領域を有する反射型フォトマスクにおいて、反射型フォトマスクの裏面に薄膜コイルが形成され、薄膜コイルに電流を流してパターン形成領域に塵埃が付着するのを防ぐよう構成され、表面のパターン形成領域の外周の全部又は一部に第1のヨークを配置され、反射型フォトマスクの側面の全部又は一部に第2のヨークを配置されることを特徴とする反射型フォトマスク。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

表面にパターン形成領域を有する反射型フォトマスクにおいて、前記反射型フォトマスクの裏面に薄膜コイルが形成され、前記薄膜コイルに電流を流して前記パターン形成領域に塵埃が付着するのを防ぐよう構成したことを特徴とする反射型フォトマスク。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 1/16 , G03F 7/20

FI (5件)：

H01L21/30 531M , H01L21/30 531A , H01L21/30 503G , G03F1/16 A , G03F7/20 521

Fターム (14件)：

2H095BA10 , 2H095BB30 , 2H095BE12 , 5F046AA28 , 5F046BA05 , 5F046CB17 , 5F046CC02 , 5F046CC09 , 5F046DA27 , 5F046GA03 , 5F046GA07 , 5F046GA12 , 5F046GD10 , 5F046GD20

引用特許：

出願人引用 (2件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-305604 出願人：キヤノン株式会社
マスク収容容器、露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-329880 出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (5件)

EUV露光用マスクブランクスおよびその製造方法、EUV露光用マスク
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-143352 出願人：大日本印刷株式会社
マスク取扱い方法、およびマスクおよびそのためのグリッパを含む器具または装置、デバイス製造方法およびそれによって製造したデバイス
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-051332 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
レチクルチャック、レチクル、レチクルの吸着構造および露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2007-003465 出願人：株式会社ニコン

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