特許
J-GLOBAL ID：201003024144497883

欠陥観察方法および欠陥観察装置

発明者：
原田 実

原田 実 について

, 
中垣 亮

中垣 亮 について

, 
小原 健二

小原 健二 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-042499
公開番号（公開出願番号）：特開2010-197221
出願日： 2009年02月25日
公開日（公表日）： 2010年09月09日
要約：
【課題】試料の設計情報を用いて形成される回路パターンの配置や上下関係などの構造を解析し、解析結果をもとに欠陥画像から良品画像を作成し、比較検査により欠陥を検出することができる欠陥観察装置を提供する。【解決手段】欠陥観察装置において、観察対象の試料106の設計情報を記憶部114から入力し、1つ以上のレイヤを含む設計情報に基づいて、観察対象の試料に対して予め設定された観察可能なレイヤ情報を記憶部114から入力し、他の検査装置により検出された試料上の欠陥座標を記憶部114から入力し、欠陥座標に基づいた観察対象の試料106上の欠陥について、欠陥座標の周辺領域における回路パターンの構造を、設計情報およびレイヤ情報に基づいて解析し、回路パターンの構造の解析結果を用いて良品画像を推定し、良品画像および画像取得部からの画像情報の比較検査により欠陥を検出する演算部120を備えた。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
試料の画像を取得する画像取得部と、記憶部および演算部を含み前記画像取得部からの画像情報が入力され、前記演算部による処理により前記試料上の欠陥を観察する信号処理部を有する欠陥観察装置における欠陥観察方法であって、 観察対象の前記試料の設計情報を前記記憶部から入力するステップと、 1つ以上のレイヤを含む前記設計情報に基づいて、観察対象の前記試料に対して予め設定された観察可能なレイヤ情報を前記記憶部から入力するステップと、 他の検査装置により検出された試料上の欠陥座標を前記記憶部から入力するステップと、 前記欠陥座標に基づいた観察対象の前記試料上の欠陥について、前記欠陥座標の周辺領域における回路パターンの構造を、前記設計情報および前記レイヤ情報に基づいて解析するステップと、 前記回路パターンの構造の解析結果を用いて良品画像を推定するステップと、 前記良品画像および前記画像取得部からの前記画像情報の比較検査により欠陥を検出するステップとを備えたことを特徴とする欠陥観察方法。
IPC (3件)：
G01N 23/225 ,  G01N 21/956 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G01N23/225 ,  G01N21/956 A ,  H01L21/30 502V
Fターム (16件)：
2G001AA03 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001GA12 ,  2G001HA13 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001QA01 ,  2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051AC04 ,  2G051BB03 ,  2G051CB05 ,  2G051ED12 ,  2G051ED13 ,  2G051ED15
引用特許：
審査官引用 (4件)
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