特許
J-GLOBAL ID：200903028718664966
擬似SEM画像データの生成方法およびフォトマスクの欠陥検査方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-274990
公開番号（公開出願番号）：特開2004-109788
出願日： 2002年09月20日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：
【課題】制約が少なく、欠陥抽出の精度の面で優れたSEM画像データを用いたフォトマスクの欠陥検査方法を提供する。同時に、このようなフォトマスク検査方法に用いられる擬似SEM画像データの生成方法を提供する。【解決手段】製品の設計形状基づいた原画像データの各画素に対し、それぞれ、対象とする画素とその画素の周辺の画素を含む所定の近傍領域の全画素数に対する所定絵柄部の画素数の割合Raを求め、求められた割合Raを、予め、SEM像の明暗表示状態に対応して求めておいた、前記割合Raをパラメータとする所定の濃度表示関数F(Ra)により、対応する輝度値に変換し、変換によって得られた輝度値を、それぞれ、前記原画像データの対応する各画素に、その輝度値として割り振った、画像データを新たに作成し、擬似SEM画像データとする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
製品のSEM画像に類似した擬似SEM画像の生成方法であって、製品の設計形状に基づいた原画像データの各画素に対し、それぞれ、対象とする画素とその画素の周辺の画素を含む所定の近傍領域の全画素数に対する所定絵柄部の画素数の割合Raを求め、求められたRaを、予め、SEM像の明暗表示状態に対応して求めておいた、前記割合Raをパラメータとする所定の輝度表示関数F(Ra)により、対応する輝度値に変換し、変換によって得られた輝度値を、それぞれ、前記原画像データの対応する各画素に、その輝度値として割り振った、画像データを新たに作成し、擬似SEM画像データとすることを特徴とする擬似SEM画像データの生成方法。
IPC (4件)：
G03F1/08
, G01N23/225
, H01J37/22
, H01J37/28
G03F1/08 S
, G01N23/225
, H01J37/22 502H
, H01J37/28 B
2G001AA03
, 2G001BA07
, 2G001CA03
, 2G001FA01
, 2G001FA06
, 2G001GA06
, 2G001HA13
, 2G001KA03
, 2G001LA20
, 2H095BD04
, 2H095BD24
, 5C033UU05
